[實用新型]一種矩形平面磁控濺射陰極無效
| 申請號： | 201120023576.1 | 申請日： | 2011-01-25 |
| 公開（公告）號： | CN201981253U | 公開（公告）日： | 2011-09-21 |
| 發明（設計）人： | 蘇宜龍;趙子東 | 申請（專利權）人： | 上海子創鍍膜技術有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 上海衡方知識產權代理有限公司 31234 | 代理人： | 王福新 |
| 地址： | 201617 上海*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 矩形 平面 磁控濺射 陰極 | ||
【權利要求書】：
1.一種矩形平面磁控濺射陰極，包括陰極組件、設置陰極組件上端的支承座、支撐座上端的陰極蓋板，其特征在于，所述支承座分為支撐座底板，支撐座中板，支撐座頂板，所述支撐座中板為絕緣體。
2.根據權利要求1所述的濺射陰極，其特征在于，在支撐座中板兩側還設置有支撐座防護罩。
3.根據權利要求1所述的濺射陰極，其特征在于，在陰極組件的外圍還設有屏蔽罩，所述屏蔽罩通過螺栓與支撐座底板相連。
4.根據權利要求1所述的濺射陰極，其特征在于，所述支撐座頂板與陰極蓋板通過螺栓相連。
5.根據權利要求1所述的濺射陰極，其特征在于，所述支撐座中板通過螺栓與支撐座底板、支撐座頂板相連。
6.根據權利要求5所述的濺射陰極，其特征在于，所述螺栓為T型槽專用螺栓。
7.根據權利要求1所述的濺射陰極，其特征在于，所述支撐座中板的材質為聚甲醛或聚四氟乙烯塑料。
8.根據權利要求1所述的濺射陰極，其特征在于，所述防護罩的材質為聚四氟乙烯或PEEK塑料。
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