[實(shí)用新型]多參數(shù)精確可調(diào)多制式微波輔助納米材料制備后處理裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201120007452.4 | 申請(qǐng)日： | 2011-01-12 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN201971629U | 公開（公告）日： | 2011-09-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 劉健 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 揚(yáng)州藍(lán)劍電子系統(tǒng)工程有限公司 |
| 主分類號(hào)： | B82B3/00 | 分類號(hào)： | B82B3/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 225003 江*** | 國(guó)省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 參數(shù) 精確 可調(diào) 制式 微波 輔助 納米 材料 制備 處理 裝置 | ||
【權(quán)利要求書】：
1.一種多參數(shù)精確可調(diào)多制式微波輔助納米材料制備后處理裝置，其特征在于：包括外層設(shè)有金屬屏蔽層的箱體，在箱體內(nèi)壁設(shè)有全包覆吸波材料，在箱體內(nèi)壁頂部設(shè)有紅外測(cè)溫裝置和定向微波束發(fā)射天線，在箱體內(nèi)壁底部設(shè)有工作臺(tái)，在工作臺(tái)上留有進(jìn)出樣部件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多參數(shù)精確可調(diào)多制式微波輔助納米材料制備后處理裝置，其特征在于：所述的工作臺(tái)為可旋轉(zhuǎn)環(huán)氧乙烷支架工作臺(tái)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多參數(shù)精確可調(diào)多制式微波輔助納米材料制備后處理裝置，其特征在于：所述的金屬屏蔽層為雙層金屬屏蔽層。
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