[實用新型]一種真空噴射立式降水裝置

有效

• 申請號: 201120004552.1
• 申請日: 2011-01-10
• 公開（公告）號: CN201962686U
• 公開（公告）日: 2011-09-07
• 發明（設計）人: 張建民;楊明鋒;馬連科;劉恩祥;黃延年
• 申請（專利權）人: 山西華晉巖土工程勘察有限公司;中化二建集團有限公司
• 主分類號: E02D19/10
• 分類號: E02D19/10;E02D19/20
• 代理公司: 太原市科瑞達專利代理有限公司 14101
• 代理人: 盧茂春

1.一種真空噴射立式降水裝置，其特征是它包括罐體、潛水泵、射流管、氣水分離器、穩流板、排水泵、自動水位控制器，罐體的內腔設有潛水泵、氣水分離器、穩流板、排水泵、自動水位控制器，罐體上設有過濾槽、注水口、排水口、溢流口，罐體外設有射流管，射流管通過管道連接潛水泵、過濾槽、氣水分離器，排水泵的輸出管道伸出罐體外，罐體上的溢流口與自動水位控制器相通。

2.根據權利要求1所述的一種真空噴射立式降水裝置，其特征是所述的穩流板由水平穩流板和豎直穩流板組成，穩流板焊接在罐體上，穩流板為鋼板上設有密集小孔的結構。

3.根據權利要求2所述的一種真空噴射立式降水裝置，其特征是所述的水平穩流板設置在在距離罐體底部2/5罐體高度處。