[實(shí)用新型]雙T-PO技術(shù)測量材料光學(xué)非線性的裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201120001987.0
• 申請日: 2011-01-06
• 公開（公告）號: CN202002885U
• 公開（公告）日: 2011-10-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宋瑛林;楊俊義;方宇;劉南春;金肖;稅敏;李常偉
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州大學(xué)
• 主分類號: G01N21/59
• 分類號: G01N21/59
• 代理公司: 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 32103
• 代理人: 陶海鋒

1.?一種雙T-PO技術(shù)測量材料光學(xué)非線性的裝置，包括設(shè)置于脈沖激光束(1)入射光路上的第一分束器(2)，第一分束器(2)分出的第一束光的光路上設(shè)有第一探測器(3)，第一分束器分出的第二束光路上設(shè)有1/2玻片(4)、偏振片(5)和相位物體(6)，其特征在于：經(jīng)所述相位物體(6)出射的光路上設(shè)有第二分束器(7)，第二分束器(7)分出的一束光路上依次設(shè)有第一凸透鏡(9)、待測樣品(12)、第一小孔光闌(14)和第二探測器(16)，所述待測樣品(12)位于第一凸透鏡(9)的焦平面上；第二分束器(7)分出的另一束光路上依次設(shè)有第二凸透鏡(10)、標(biāo)準(zhǔn)樣品(11)、第二小孔光闌(13)和第三探測器(15)，所述標(biāo)準(zhǔn)樣品(11)位于第二凸透鏡(10)的焦平面上。

2.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙T-PO技術(shù)測量材料光學(xué)非線性的裝置，其特征在于：在所述第二分束器(7)和第一凸透鏡(9)之間，設(shè)置有反射鏡(8)，反射鏡(8)的角度布置使待測樣品(12)所在光路與標(biāo)準(zhǔn)樣品(11)所在光路平行設(shè)置。

3.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙T-PO技術(shù)測量材料光學(xué)非線性的裝置，其特征在于：所述相位物體(6)的相位延遲為0.25π～0.75π，大小為入射到相位物體(6)上的光斑束腰半徑的0.05～0.5倍。

4.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙T-PO測量材料光學(xué)非線性的裝置，其特征在于：所述相位物體(6)的相位延遲為0.5π，大小為入射到相位物體(6)上的光斑束腰半徑的0.1倍。

5.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的雙T-PO測量材料光學(xué)非線性的裝置，其特征在于：所述第一小孔光闌(14)和第二小孔光闌(13)的半徑的大小等于相位物體(6)的遠(yuǎn)場衍射光斑的半徑大小。