[發明專利]用于光刻的包含糖組分的組合物及其制備方法

有效

• 申請號: 201110463331.5
• 申請日: 2011-11-15
• 公開（公告）號: CN102591147A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發明（設計）人: 吳俊錫;D·王;劉驄;李明琦;C·吳;C-B·徐
• 申請（專利權）人: 羅門哈斯電子材料有限公司
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/00
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 陳哲鋒

1.一種處理光刻膠組合物的方法，所述方法包括：

(a)在基材上施加光刻膠組合物，所述光刻膠組合物包括：

(i)一種或多種樹脂，

(ii)光活性組分，和

(iii)一種或多種含有糖取代基的材料，其中一種或多種材料與一種或多種樹脂基本上是不互溶的，和

(b)將光刻膠層在輻射中浸沒曝光以活化光刻膠組合物。

2.根據權利要求1所述的方法，其中一種或多種含有糖取代基的材料包括一種或多種含有糖基基團的樹脂。

3.根據權利要求1至3任一項所述的方法，其中的一種或多種含有糖取代基的材料進一步包括一個或多個吸電子部分。

4.根據權利要求1至3任一項所述的方法，其中的一種或多種含有糖取代基的材料包括一個或多個氟基團或氟取代的基團。

5.根據權利要求1至4任一項所述的方法，其中的一種或多種含有糖取代基的材料包括堿水溶液可溶性基團和/或一個或多個光致酸不穩定基團。

6.一種處理光刻膠組合物的方法，所述方法包括：

(a)在基材上施加光刻膠組合物，所述光刻膠組合物包括：

(i)一種或多種樹脂，

(ii)光活性組分，和

(iii)一種或多種含有一個或多個糖基基團的聚合物，其中一種或多種聚合物不同于一種或多種樹脂，和

(b)將光刻膠層在輻射中浸沒曝光以活化光刻膠組合物。

7.一種涂敷基材體系，所述體系包括：

基材，所述基材上有：

光刻膠組合物涂層，所述光刻膠組合物包括：

(i)一種或多種樹脂，

(ii)光活性組分，和

(iii)一種或多種含糖取代基的材料。

8.根據權利要求7所述的系統，其特征在于，浸沒光刻流體與所述光刻膠涂層的頂面相接觸。

9.根據權利要求7或8的體系，進一步包括浸沒式光刻曝光工具。

10.一種光刻膠組合物，所述光刻膠組合物包括：

(i)一種或多種樹脂，

(ii)光活性組分，和

(iii)一種或多種含有糖取代基的材料，其中一種或多種含有糖取代基的材料與一種或多種樹脂基本上是不互溶的。

11.根據權利要求10所述的光刻膠組合物，其中一種或多種含有糖取代基的材料包括一種或多種含有糖取代基的三元共聚物、四元共聚物或五元共聚物。