[發明專利]與外涂的光致抗蝕劑一起使用的涂料組合物有效
| 申請號： | 201110463317.5 | 申請日： | 2011-12-31 |
| 公開（公告）號： | CN102621813A | 公開（公告）日： | 2012-08-01 |
| 發明（設計）人： | O·昂格伊;V·簡恩;S·克雷;A·贊皮尼 | 申請（專利權）人： | 羅門哈斯電子材料有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/09 | 分類號： | G03F7/09;C09D167/00 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 顧敏 |
| 地址： | 美國馬*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光致抗蝕劑 一起 使用 涂料 組合 | ||
1.一種涂布的基材，包含：
(a)基材上的一涂料組合物層，所述涂料組合物包含含有一種或多種尿嘧啶部分的組分；
(b)在涂料組合物層上的光致抗蝕劑層。
2.如權利要求1所述的基材，其特征在于，所述包含一種或多種尿嘧啶部分的組分是樹脂。
3.如權利要求2所述的基材，其特征在于，所述樹脂包含聚酯鍵合。
4.如權利要求2或3所述的基材，其特征在于，所述樹脂進一步包含一個或多個氰脲酸酯基團。
5.如權利要求1至4中任一項所述的基材，其特征在于，所述涂料組合物包含苯基或蒽基基團。
6.一種形成光致抗蝕劑浮雕圖像的方法，包括：
(a)在基材上涂敷一涂料組合物，所述涂料組合物包含含有一種或多種尿嘧啶部分的組分；
(b)在所述涂料組合物層上涂敷一光致抗蝕劑組合物；和
(c)曝光并顯影所述光致抗蝕劑層以提供抗蝕劑浮雕圖像。
7.如權利要求6所述的方法，其特征在于，所述含有一種或多種尿嘧啶部分的組分是樹脂。
8.如權利要求7所述的方法，其特征在于，所述樹脂包含聚酯鍵合。
9.如權利要求6至8中任一項所述的方法，其特征在于，所述涂料組合物包含含有苯基或蒽基基團的組分。
10.如權利要求6至9中任一項所述的方法，其特征在于，所述光致抗蝕劑在193nm輻射下曝光。
11.如權利要求6至10中任一項所述的方法，其特征在于，所述涂敷的涂料組合物在涂敷所述光致抗蝕劑組合物之前是交聯的。
12.一種與外涂的光致抗蝕劑組合物一起使用的減反射組合物，所述減反射組合物包含含有一種或多種尿嘧啶鍵合的樹脂。
13.如權利要求12所述的減反射組合物，其特征在于，所述樹脂包含聚酯鍵合。
14.如權利要求12或13所述的減反射組合物，其特征在于，所述樹脂包含苯基基團。
15.如權利要求12至14中任一項所述的減反射組合物，其特征在于，所述組合物包含交聯劑組分。
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