[發(fā)明專利]用于與外涂的光刻膠一起使用的涂料組合物

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110463289.7
• 申請日: 2011-12-31
• 公開（公告）號: CN102591154A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發(fā)明（設(shè)計）人: V·簡恩;O·昂格伊;S·克雷;A·贊皮尼
• 申請（專利權(quán)）人: 羅門哈斯電子材料有限公司
• 主分類號: G03F7/09
• 分類號: G03F7/09;G03F7/00;G03F7/004
• 代理公司: 上海專利商標事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 陳哲鋒

1.一種涂覆的基底，所述涂覆的基底包含：

(a)在基底上的涂料組合物層，該涂料組合物包含這樣的組分，該組分包含一種或多種仲班酸部分；和

(b)在該涂料組合物層上的光刻膠層。

2.權(quán)利要求1的基底，其中該包含一種或多種仲班酸部分的組分是樹脂。

3.權(quán)利要求2的基底，其中該樹脂包含聚酯鍵。

4.權(quán)利要求2或者3的基底，其中該樹脂進一步包含一種或多種氰脲酸酯和/或尿嘧啶基團。

5.一種形成光刻膠浮雕圖像的方法，所述方法包含：

(a)將涂料組合物施涂到基底上，該涂料組合物包含這樣的組分，該組分包含一種或多種仲班酸部分；

(b)將光刻膠組合物施涂到該涂料組合物層上；和

(c)曝光和顯影該光刻膠層來提供抗蝕劑浮雕圖像。

6.權(quán)利要求5的方法，其中該包含一種或多種仲班酸部分的組分是樹脂。

7.權(quán)利要求6的方法，其中該樹脂包含聚酯鍵。

8.權(quán)利要求5-7任一的方法，其中該涂料組合物包含含有苯基或者蒽基的組分。

9.權(quán)利要求5-8任一的方法，其中該光刻膠是用193nm的輻射來曝光的。

10.權(quán)利要求5-9任一的方法，其中在施涂該光刻膠組合物之前，交聯(lián)所施涂的涂料組合物。

11.一種減反射組合物，所述組合物用于與外涂的光刻膠組合物一起使用，該減反射組合物包含樹脂，該樹脂包含一種或多種仲班酸部分。

12.權(quán)利要求13的減反射組合物，其中該樹脂包含聚酯鍵。

13.權(quán)利要求11或者12的減反射組合物，其中該樹脂包含苯基。

14.權(quán)利要求11-13任一的減反射組合物，其中該組合物包含交聯(lián)劑組分。