[發(fā)明專利]甲基對硫磷農(nóng)藥殘留量的電致化學(xué)發(fā)光檢測裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110462796.9 | 申請日: | 2011-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN102539417A | 公開(公告)日: | 2012-07-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周漢坤;干寧;李榕生;李天華;侯建國;曾少林;周靖 | 申請(專利權(quán))人: | 寧波大學(xué) |
| 主分類號: | G01N21/76 | 分類號: | G01N21/76;G01N27/48 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 315211 浙江省寧波市*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 甲基 對硫磷 農(nóng)藥 殘留 化學(xué) 發(fā)光 檢測 裝置 | ||
1.甲基對硫磷農(nóng)藥殘留量的電致化學(xué)發(fā)光檢測裝置,該裝置的結(jié)構(gòu)包括電解池,以及,裝設(shè)于電解池下方的光電倍增管,以及,所述電解池裝設(shè)在暗盒之內(nèi),以及,工作電極,以及,對電極,以及,參比電極,所述對電極是鉑絲電極,所述參比電極是Ag/AgCl電極,所述工作電極是玻碳電極,該玻碳電極的工作面直徑為3mm,該玻碳電極是其工作面修飾有納米二氧化鋯的玻碳電極,該玻碳電極的工作面的修飾方法其主要步驟如下:
(1)將玻碳電極在0.3-0.05μm的Al2O3粉末上拋光成鏡面,用乙醇和二次蒸餾水超聲清洗,然后將電極在0.1mol/L的KCl中含有0.00l?mol/L?K3Fe(CN)6的溶液中掃描循環(huán)伏安實(shí)驗(yàn),直到得到一個很好的氧化還原可逆峰;
(2)準(zhǔn)確稱取20mg的納米氧化鋯,散于10mL的N,N-二甲基甲酰胺(DMF)中超聲30min使納米氧化鋯在DMF中分散均勻;
(3)吸取10μL納米氧化鋯-DMF的分散液滴于上述處理好的玻碳電極表面,使其均勻鋪展在玻碳電極表面,然后自然晾干,約30min;
電解池中的溶液也就是電解池底液其組成是:0.1mol/L的KCl溶液中含有1.0×10-5mol/L的3-氨基鄰苯二甲酰肼,該電解池底液的pH值為7.0;
所述工作電極以及對電極以及參比電極的工作端的裝設(shè)位置是在電解池內(nèi)的所述電解池底液的液面以下的位置;
以及,該裝置的使用方法包括如下主要步驟:
A,將此工作電極在魯米諾(1.0×10-5mol/L)/KCl(0.1mol/L)中掃描背景信號,掃描條件分別為:掃描速率0.1V/s,掃描范圍是-0.8~0.6V,光電倍增管負(fù)高壓是750V,增益為3,發(fā)光信號記為I0;
B,將此工作電極浸泡在甲基對硫磷的標(biāo)準(zhǔn)溶液中吸附240s,然后用二次蒸餾水沖洗60s,將此工作電極按照步驟A的實(shí)驗(yàn)條件在相同的溶液中掃描電致化學(xué)發(fā)光信號;該電致化學(xué)發(fā)光信號記為Is;
C,工作電極再生步驟:吸附過甲基對硫磷的工作電極在掃描過電致化學(xué)發(fā)光信號后,進(jìn)行該電極的再生步驟,該步驟是將此工作電極在0.5mol/L的NaOH-CH3OH溶液中浸泡10min以除去吸附在工作電極表面的甲基對硫磷分子;
D,針對甲基對硫磷定量的步驟:將空白的工作電極在不同濃度的甲基對硫磷中吸附240s后然后檢測電致化學(xué)發(fā)光信號,分別記為I1,I2,I3……,然后扣除背景信號I0,得到ΔI,這樣根據(jù)ΔI與對應(yīng)濃度的關(guān)系得到一條線性關(guān)系;
E,將測得的實(shí)際樣品的ΔI與步驟D所述線性關(guān)系比對,得出甲基對硫磷濃度。
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G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





