[發(fā)明專利]緊湊型乳腺X線照相裝置及其相關(guān)聯(lián)的乳腺X線照相過程

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110461919.7
• 申請(qǐng)日: 2011-11-26
• 公開（公告）號(hào): CN102525518A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: S·穆勒;A·布迪耶;S·李
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 通用電氣公司
• 主分類號(hào): A61B6/00
• 分類號(hào): A61B6/00
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 柯廣華;朱海煜

1.一種乳腺X線照相裝置(1)，包括：

X射線源(2)，

X射線探測(cè)器(3)，

所述源(2)能夠發(fā)射X射線的至少一個(gè)束(f_i，j)至所述探測(cè)器(3)，用于進(jìn)行患者(12)的乳腺X線照相，

所述乳腺X線照相裝置(1)的特征在于其包括

X射線方向的光學(xué)控制裝置(10)，其配置成控制由所述源(2)發(fā)射至所述探測(cè)器(3)的X射線的方向，控制的方式使得由所述源(2)發(fā)射至所述探測(cè)器(3)的所述X射線彼此基本平行。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的乳腺X線照相裝置(1)，其中，

所述源(2)包括X射線的發(fā)射焦斑，

所述探測(cè)器(3)包括探測(cè)表面(15)，以及

調(diào)節(jié)所述發(fā)射焦斑和所述探測(cè)表面(15)之間的距離，以使得所述焦點(diǎn)沿與所述探測(cè)表面正交的軸、布置在位于所述患者(12)的頭部(13)以下的區(qū)域中。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2中任一項(xiàng)所述的乳腺X線照相裝置(1)，其中，

所述源(2)包括X射線發(fā)射焦斑，

所述探測(cè)器(3)包括探測(cè)表面，以及

所述發(fā)射焦斑和所述探測(cè)表面(15)之間的距離介于5cm至30cm之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的乳腺X線照相裝置(1)，其中，所述源(2)能夠如下地移動(dòng)

根據(jù)第一方向移動(dòng)，從而增加或減少所述源(2)與所述探測(cè)器(3)之間的距離，和/或

根據(jù)第二方向移動(dòng)，從而增加或減少所述源(2)和所述患者(12)的軀干的平面之間的距離。

5.根據(jù)權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的乳腺X線照相裝置(1)，其中，X射線方向的所述光學(xué)控制裝置(10)包括材料的多個(gè)層(21)，其中：

-所述層的至少一個(gè)第一子集(32)具有屬于第一值區(qū)間的折射率，所述層的至少一個(gè)第二子集(33)具有屬于第二值區(qū)間的折射率，所述第一區(qū)間的值大于所述第二區(qū)間的值，或相反地，所述光學(xué)裝置(10)包括連續(xù)的層，所述連續(xù)的層交替地屬于所述第一子集(32)和所述第二子集(33)，以及

-所述裝置的所述層(21)的至少部分在所述層之間的分界面處具有內(nèi)曲區(qū)域(42)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)所述的乳腺X線照相裝置(1)，其中，所述源適于發(fā)射X射線的多個(gè)束(f_i，j)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1～6中任一項(xiàng)所述的乳腺X線照相裝置(1)，其中，所述源(2)適于從多個(gè)發(fā)射焦點(diǎn)(17)發(fā)射多個(gè)束(f_i，j)，所述焦點(diǎn)(17)如下布置：

-布置在直線上，或

-布置在曲線上，或

-布置在表面上。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～7中任一項(xiàng)所述的乳腺X線照相裝置(1)，其中，

-所述源(2)和/或所述探測(cè)器(3)能夠相對(duì)于彼此以平移方式相對(duì)移動(dòng)，和/或

-所述源(2)和/或所述探測(cè)器(3)能夠相對(duì)于彼此以不同的相對(duì)角度位置移動(dòng)，以通過層析X射線照相組合獲得三維乳腺X線照相圖像，或

-所述源(2)和/或所述探測(cè)器(3)能夠圍繞所述患者(12)的乳房旋轉(zhuǎn)移動(dòng)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1～8中任一項(xiàng)所述的乳腺X線照相裝置，其中，所述探測(cè)器(3)能夠探測(cè)由所述源(2)發(fā)射至所述探測(cè)器(3)的X射線的能量或能量范圍，用于獲取在X射線的不同發(fā)射能量上的乳腺X線照相圖像。

10.一種乳腺X線照相裝置(1)中的乳腺X線照相過程，其特征在于所述乳腺X線照相裝置(1)包括：

X射線源(2)，

X射線探測(cè)器(3)，其包括探測(cè)表面(15)，

X射線方向的光學(xué)控制裝置(10)，其配置成控制由所述源(2)發(fā)射至所述探測(cè)器(3)的X射線的方向，控制的方式使得所述X射線彼此基本平行，

所述過程的特征在于其包括以下步驟：

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其包括以以下方式產(chǎn)生(E2)所述源(2)和所述探測(cè)器(3)之間的相對(duì)位移：由所述源(2)發(fā)射的束(f_i，j)、或多個(gè)束(f_i，j)中的X射線掃所述描探測(cè)器(3)的所述探測(cè)表面(15)的部分或整體。

12.根據(jù)權(quán)利要求10或11中任一項(xiàng)所述的方法，其中，所述源(2)能夠發(fā)射X射線的多個(gè)束(f_i，j)，以及包括以下步驟(E3)

-相對(duì)于所述源(2)移動(dòng)所述探測(cè)器(3)，以及

-相繼發(fā)射所述源(2)的射線的多個(gè)束(f_i，j)中的X射線束的子集，選擇所述束的子集，以呈現(xiàn)指向位移中的所述探測(cè)器(2)的X射線。