[發(fā)明專利]用于持續(xù)地將薄膜層淀積在襯底上的氣相淀積設(shè)備和過程

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110461636.2
• 申請日: 2011-12-22
• 公開（公告）號: CN102534510A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: S·D·費(fèi)爾德曼-皮博迪;R·W·布萊克;E·J·利特爾;M·J·帕沃爾;C·拉思維格;M·W·里德
• 申請（專利權(quán)）人: 初星太陽能公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 李強(qiáng);傅永霄

1.一種用于將升華的源材料(117)作為薄膜而氣相淀積在光生伏打(PV)模塊襯底(14)上的設(shè)備(100)，所述設(shè)備包括：

淀積頭(110)；

設(shè)置在所述淀積頭(110)中的容器(116)，其中，所述容器(116)構(gòu)造成接收粒狀源材料(117)；

加熱系統(tǒng)(115)，其構(gòu)造成加熱所述容器(116)，以使所述源材料(117)升華；以及，

設(shè)置在所述容器(116)和基本沿豎向被傳送通過所述設(shè)備(100)的襯底(14)之間的基本豎向的分配板(152)，其中，所述分配板(152)定位在距所述襯底(14)的淀積表面的豎向傳送平面規(guī)定距離處，所述分配板(152)包括通過其中的一定型式的通道，所述通道分配所述升華的源材料(119)，以使其淀積到所述襯底(14)的所述淀積表面上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備(100)，其特征在于，所述設(shè)備(100)進(jìn)一步包括：

構(gòu)造成將所述源材料(117)供應(yīng)給所述容器(116)的進(jìn)料系統(tǒng)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備(100)，其特征在于，所述進(jìn)料系統(tǒng)包括構(gòu)造成將所述源材料(117)供應(yīng)給所述容器(116)的進(jìn)料管(148)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的設(shè)備(100)，其特征在于，分配器(144)附連到所述進(jìn)料管(148)上，其中，所述分配器(144)構(gòu)造成將所述源材料(117)供應(yīng)給所述容器(116)。

5.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的設(shè)備(100)，其特征在于，多個(gè)容器(116)設(shè)置在所述淀積頭(110)內(nèi)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備(100)，其特征在于，所述容器(116)在所述淀積頭(110)內(nèi)以豎向布置基本對準(zhǔn)。

7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的設(shè)備(100)，其特征在于，所述加熱系統(tǒng)構(gòu)造成獨(dú)立地加熱各個(gè)容器(116)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的設(shè)備(100)，其特征在于，所述加熱系統(tǒng)包括多個(gè)加熱元件(115)，其中，各個(gè)容器(116)由至少一個(gè)加熱元件(115)加熱。

9.根據(jù)權(quán)利要求5至8中的任一項(xiàng)所述的設(shè)備(100)，其特征在于，所述設(shè)備(100)進(jìn)一步包括：

多個(gè)熱電偶(122)，其中，至少一個(gè)熱電偶(122)操作地定位成監(jiān)測各個(gè)容器(116)的溫度。

10.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的設(shè)備(100)，其特征在于，所述設(shè)備(100)進(jìn)一步包括：

定位在所述淀積頭(110)內(nèi)且在所述襯底(14)的下方的冷阱(153)，其中，所述冷阱(153)構(gòu)造成收集偏離的源蒸氣(119)。

11.根據(jù)前述權(quán)利要求中的任一項(xiàng)所述的設(shè)備(100)，其特征在于，所述設(shè)備(100)進(jìn)一步包括：

設(shè)置在所述容器(116)和所述分配板(152)之間的受加熱的分配歧管(124)，其中，所述受加熱的分配歧管(124)包括限定成通過其中的多個(gè)通道(126)，其中，所述受加熱的分配歧管(124)構(gòu)造成被加熱到足以抑制源材料淀積到其上的程度。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備(100)，其特征在于，所述設(shè)備(100)進(jìn)一步包括：

設(shè)置成鄰近所述分配歧管(124)的可動(dòng)遮板(136)，所述遮板(136)包括通過其中的多個(gè)通道(138)，在所述遮板(136)的第一位置上，所述多個(gè)通道(138)與所述分配歧管(124)中的所述通道(126)對準(zhǔn)，以允許升華的源材料(119)穿過所述分配歧管(124)，所述遮板(136)能夠運(yùn)動(dòng)到第二位置，在此位置上，所述遮板(136)阻擋升華的材料流過所述分配歧管(124)中的所述通道(126)。