[發(fā)明專利]使用硬掩模的濾色器圖案化有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110461303.X | 申請(qǐng)日: | 2011-12-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102916019A | 公開(公告)日: | 2013-02-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 陳剛;毛杜利;戴幸志;霍華德·E·羅茲 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 全視科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L27/146 | 分類號(hào): | H01L27/146 |
| 代理公司: | 北京律盟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人: | 沈錦華 |
| 地址: | 美國(guó)加利*** | 國(guó)省代碼: | 美國(guó);US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 使用 硬掩模 濾色器 圖案 | ||
1.一種設(shè)備,其包含:
濾色器布置,其包括一組濾色器,所述組濾色器包含:
一對(duì)第一濾色器,其每一者上面形成有第一及第二硬掩模層,
第二濾色器,其上面形成有所述第一硬掩模層,及
第三濾色器,其上面不形成硬掩模層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中所述第一濾色器為綠色的,所述第二濾色器為藍(lán)色的,且所述第三濾色器為紅色的。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備,其中所述組濾色器布置成貝爾圖案。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其中所述組濾色器經(jīng)平面化。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的設(shè)備,其中所述第三濾色器與所述第一及第二硬掩模形成平面。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備,其進(jìn)一步包含夾于所述襯底與所述組濾色器之間的平面化層。
7.一種方法,其包含:
在襯底的表面上方沉積第一濾色器層,所述襯底中形成有像素陣列;
在所述第一濾色器層上方沉積第一硬掩模;
圖案化并蝕刻所述第一硬掩模及所述第一濾色器層以形成第一開口;
在所述第一開口中沉積第二濾色器層;
在所述第一濾色器層、所述第二濾色器層及所述第一硬掩模上方沉積第二硬掩模;
圖案化并蝕刻所述第一硬掩模、所述第二硬掩模及所述第一濾色器層以形成第二開口;及
在所述第二開口中沉積第三濾色器層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其進(jìn)一步包含平面化所述第二硬掩模及所述第三濾色器層。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其中所述第一濾色器層為綠色的,所述第二濾色器層為藍(lán)色的,且所述第三濾色器層為紅色的。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法,其進(jìn)一步包含在沉積所述濾色器層之前在所述襯底上沉積平面化層,以便在所述平面化層上沉積所述濾色器層。
11.一種設(shè)備,其包含:
襯底,其具有前側(cè)及后側(cè);
圖像傳感器,其包括形成于所述襯底的所述前側(cè)中或所述前側(cè)上的像素陣列;
濾色器布置,其形成于所述像素陣列的對(duì)應(yīng)數(shù)目個(gè)像素上方,所述濾色器布置包括一組濾色器,所述組濾色器包含:
一對(duì)第一濾色器,其每一者上面形成有第一及第二硬掩模層,
第二濾色器,其上面形成有所述第一硬掩模層,及
第三濾色器,其上面不形成硬掩模層。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備,其中所述第一濾色器為綠色的,所述第二濾色器為藍(lán)色的,且所述第三濾色器為紅色的。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的設(shè)備,其中所述組濾色器布置成貝爾圖案。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備,其中所述第三濾色器與所述第一及第二硬掩模形成平面。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備,其進(jìn)一步包含夾于所述襯底與所述濾色器布置之間的平面化層。
16.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備,其中所述濾色器布置形成于所述襯底的所述前側(cè)上。
17.根據(jù)權(quán)利要求16所述的設(shè)備,其進(jìn)一步包含光學(xué)耦合到所述濾色器布置的一個(gè)或一個(gè)以上微透鏡。
18.根據(jù)權(quán)利要求11所述的設(shè)備,其中所述濾色器布置形成于所述襯底的所述后側(cè)上。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的設(shè)備,其進(jìn)一步包含光學(xué)耦合到所述濾色器布置的一個(gè)或一個(gè)以上微透鏡。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的





