[發(fā)明專利]防霧結(jié)構(gòu)、其形成方法與發(fā)光裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201110461237.6
• 申請(qǐng)日: 2011-12-30
• 公開（公告）號(hào): CN103131034A
• 公開（公告）日: 2013-06-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 葉淑鈴;陳守一;鐘明樺;鄧維豐;江曉萍;唐志孟
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 財(cái)團(tuán)法人工業(yè)技術(shù)研究院
• 主分類號(hào): C08J7/04
• 分類號(hào): C08J7/04;C09D4/02;C09D5/00;F21V3/04
• 代理公司: 北京律誠(chéng)同業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11006
• 代理人: 徐金國(guó)

1.一種防霧結(jié)構(gòu)，包括：

一基材；

一防霧層，位于該基材上；

其中該防霧層實(shí)質(zhì)上由第一單體、第二單體、第三單體、或上述的組合硬化聚合而成，

其中該第一單體的結(jié)構(gòu)如下：

R¹是H或C_1-3烷基，R²是C_1-5烷撐基或C_6-12芳香基，每一R³各自獨(dú)立地選自H或C_1-5烷基，且m介于1-20之間；

該第二單體的結(jié)構(gòu)如下：

R⁴是H或C_1-3烷基，R⁵是C_1-5烷撐基或C_6-12芳香基，且n介于1至20之間；

該第三單體的結(jié)構(gòu)如下：

R⁶是H或C_1-3烷基，每一R⁷各自獨(dú)立地選自C_1-5烷撐基或C_6-12芳香基，且R⁸是C_1-5烷基。

2.如權(quán)利要求1所述的防霧結(jié)構(gòu)，其中該基材包括聚甲基丙烯酸甲酯、聚碳酸酯、聚苯乙烯、或苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯共聚物。

3.如權(quán)利要求1所述的防霧結(jié)構(gòu)，其中該防霧層還包括耐紫外光黃變劑、流平劑、黏度調(diào)整劑、或上述的組合。

4.如權(quán)利要求1所述的防霧結(jié)構(gòu)，其中該基材的厚度為0.01～100mm，該防霧層的厚度為1～1000μm。

5.如權(quán)利要求1所述的防霧結(jié)構(gòu)，其中該防霧層實(shí)質(zhì)上由第一單體與第三單體組成，且第一單體與第三單體的重量比介于1∶99至99∶1之間。

6.如權(quán)利要求1所述的防霧結(jié)構(gòu)，其中該防霧層實(shí)質(zhì)上由第一單體與第二單體組成，且第一單體與第二單體的重量比介于1∶99至99∶1之間。

7.如權(quán)利要求1所述的防霧結(jié)構(gòu)，其中該防霧層實(shí)質(zhì)上由第二單體與第三單體組成，且第二單體與第三單體的重量比介于1∶99至99∶1之間。

8.如權(quán)利要求1所述的防霧結(jié)構(gòu)，其中該防霧層實(shí)質(zhì)上由第一單體、第二單體、與第三單體組成，且第一單體、第二單體、與第三單體的重量比介于20～60∶20～60∶20～60之間。

9.一種防霧結(jié)構(gòu)的形成方法，包括：

取一第一單體、一第二單體、一第三單體、或上述的組合，與光起始劑混合后形成一混合物，

其中該第一單體的結(jié)構(gòu)如下：

R¹是H或C_1-3烷基，R²是C_1-5烷撐基或C_6-12芳香基，每一R³各自獨(dú)立地選自H或C_1-5烷基，且m介于1-20之間；

該第二單體的結(jié)構(gòu)如下：

R⁴是H或C_1-3烷基，R⁵是C_1-5烷撐基或C_6-12芳香基，且n介于1至20之間；

該第三單體的結(jié)構(gòu)如下：

R⁶是H或C_1-3烷基，每一R⁷各自獨(dú)立，選自C_1-5烷撐基或C_6-12芳香基，且R⁸是C_1-5烷基；

將該混合物覆蓋于一基材的表面上；

固化該混合物，于該基材的表面上形成一防霧層。

10.如權(quán)利要求9所述的防霧結(jié)構(gòu)的形成方法，其中將該混合物覆蓋于該塑料基材的表面上的步驟包括噴涂法、滾筒涂布法、旋轉(zhuǎn)涂布法、浸潤(rùn)法、或上述的組合。

11.如權(quán)利要求9所述的防霧結(jié)構(gòu)的形成方法，其中該混合物的黏度介于23至1700cps之間。