[發明專利]一種反應腔室噴淋系統無效
| 申請號: | 201110460673.1 | 申請日: | 2011-12-31 |
| 公開(公告)號: | CN102433551A | 公開(公告)日: | 2012-05-02 |
| 發明(設計)人: | 崔軍;彭侃 | 申請(專利權)人: | 漢能科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/455 | 分類號: | C23C16/455 |
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| 地址: | 102209 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 反應 噴淋 系統 | ||
1.一種反應腔室噴淋系統,其特征在于在反應腔室腔蓋上固定有一套可使噴淋裝置上下移動的機構,進水管路和氣體管路通過該機構與噴淋裝置連通。
2.根據權利要求1所述的反應腔室噴淋系統,其特征在于所述可使噴淋裝置上下移動的機構包括固定在反應腔室腔蓋上的支架、與噴淋裝置固定連接的導向筒以及調節導向筒上下移動的裝置。
3.根據權利要求2所述的反應腔室噴淋系統,其特征在于所述調節導向筒上下移動的裝置包括設于支架上部的手輪和由手輪帶動旋轉的絲桿,絲桿與導向筒上梁通過旋合螺母旋合連接。
4.根據權利要求2或3所述的反應腔室噴淋系統,其特征在于所述反應腔室腔蓋上還固定有對導向筒進行定位和導向的導向套。
5.根據權利要求4所述的反應腔室噴淋系統,其特征在于所述導向套與導向筒之間為密封間隙配合。
6.根據權利要求5所述的反應腔室噴淋系統,其特征在于所述密封間隙配合是在導向套上設置密封槽,導向套與導向筒之間設有安裝在密封槽內的密封圈。
7.根據權利要求2所述的反應腔室噴淋系統,其特征在于所述支架側板的內壁上設有凹槽,導向筒上裝有與凹槽配合的導向固定塊。
8.根據權利要求7所述的反應腔室噴淋系統,其特征在于所述支架側板的外壁上設有自鎖手柄,穿過支架側板與導向固定塊連接。
9.根據權利要求2所述的反應腔室噴淋系統,其特征在于所述導向筒與噴淋裝置上部的分氣盒連接,分氣盒頂部設有水路接口和氣路接口,導向筒上部開有供進水管路和氣體管路穿過的通孔;進水管路和氣體管路通過該通孔分別與水路接口和氣路接口相連通。
10.根據權利要求9所述的反應腔室噴淋系統,其特征在于所述導向筒與分氣盒的連接部分設有密封圈。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





