[發明專利]用于氣相沉積系統的入口和出口輥子密封構造有效
| 申請號: | 201110460425.7 | 申請日: | 2011-12-23 |
| 公開(公告)號: | CN102584021A | 公開(公告)日: | 2012-07-18 |
| 發明(設計)人: | C·拉思維格 | 申請(專利權)人: | 初星太陽能公司 |
| 主分類號: | C03C17/22 | 分類號: | C03C17/22;C23C16/54;C23C14/56;C23C16/448 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 嚴志軍;傅永霄 |
| 地址: | 美國科*** | 國省代碼: | 美國;US |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 沉積 系統 入口 出口 輥子 密封 構造 | ||
1.一種用于將升華的源材料氣相沉積為離散的光伏(PV)模塊襯底(14)上的薄膜的裝置(60),所述離散的光伏(PV)模塊襯底以連續不停的方式傳送經過所述裝置,所述裝置包括:
氣相沉積頭(62),其構造成用于接納并升華源材料,并用于將升華的源材料分配到傳送經過所述裝置的沉積區(112)的襯底的上表面上;
輥子密封構造(200),其具有用于傳送經過所述裝置的襯底的入口槽(120)和出口槽(122)中的至少一者;
所述輥子密封構造還包括柱體(202),所述柱體可旋轉地支撐在所述襯底的傳送平面(208)上方的限定間隙高度(210)處,使得所述柱體在所述襯底的限定的活性半導體區域內不與所述襯底成連續滾動接觸;
所述柱體相對于所述襯底的傳送平面在豎直方向上能夠浮動,使得當所述襯底在所述柱體下方被傳送時所述柱體滾上并越過超過所述間隙高度的所述襯底中的表面變化。
2.根據權利要求1所述的裝置(60),其特征在于,所述柱體(202)向著所述襯底(14)的傳送平面(208)被重力或彈簧偏壓。
3.根據權利要求1所述的裝置(60),其特征在于,所述柱體(202)包括階梯式直徑,且在其端部(204)處具有直徑增大的帶(218),所述直徑增大的帶構造成在所述襯底(14)的側邊緣部分(220)上連續或間歇地滾動。
4.根據權利要求3所述的裝置(60),其特征在于,所述直徑增大的帶(218)最初設于所述襯底(14)的傳送平面(208)下方并且在所述襯底在所述柱體(202)下方傳送時滾上所述襯底的側邊緣部分(220)。
5.根據權利要求4所述的裝置(60),其特征在于,所述柱體(202)以所述襯底(14)的傳送速度被驅動。
6.根據權利要求1所述的裝置(60),其特征在于,所述柱體(202)在所述傳送平面(208)上方的所述間隙高度(210)在大約0.010英寸至大約0.125英寸的范圍內。
7.根據權利要求1所述的裝置(60),其特征在于,所述裝置還在所述柱體的端部(204)處包括軸承座(214),所述柱體能夠在所述軸承座中自由旋轉。
8.根據權利要求1所述的裝置(60),其特征在于,所述裝置還包括配置在所述氣相沉積頭(62)下方的傳送器組件(100),所述傳送器組件還包括:
限定封閉的內部容積的殼體(104);
傳送器(102),其可操作地設于所述殼體內,以在所述殼體內的無端回線中被驅動,所述無端回線具有沿傳送方向移動的上分支和沿相反的返回方向移動的下分支;
所述殼體還包括限定所述沉積區(112)的頂部部件(110),所述沉積頭配置在所述頂部部件上,使得所述傳送器上的襯底經過所述頂部部件中的所述沉積區暴露于所述沉積頭;
所述柱體(202)在所述頂部部件的縱向端部處限定所述出口槽(122);并且
還包括在所述入口槽(120)處的附加所述輥子密封構造(200),且柱體(202)位于所述頂部部件的相對縱向端部處。
9.根據權利要求8所述的裝置(60),其特征在于,所述柱體(202)可旋轉地安裝在被支撐在所述頂部部件(110)上的軸承座(214)中,所述柱體在所述軸承座中能夠豎直調節,以調節所述間隙高度(210)。
10.根據權利要求8所述的裝置(60),其特征在于,所述傳送器(102)包括支撐被傳送經過所述裝置的所述襯底(14)的多個互連板條(130)。
11.一種用于為氣相沉積裝置(60)中的入口槽(120)或出口槽(122)中的至少一者提供密封的方法,其中升華的源材料沉積為以連續不停的方式傳送經過所述裝置的離散的光伏(PV)模塊襯底(14)上的薄膜,所述方法包括:
將可旋轉地支撐的柱體(202)設于所述襯底的傳送平面(208)上方的限定間隙高度(210)處,使得所述柱體不會與接納所述薄膜的襯底的限定活性半導體區域成連續滾動接觸;以及,
支撐所述柱體以使其相對于所述襯底的傳送平面在豎直方向(212)上能夠浮動,使得當所述襯底在所述柱體下方被傳送時所述柱體滾上并越過所述襯底中超過所述間隙高度的表面變化。
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