[發明專利]浸沒式光刻系統的投影系統

有效

• 申請號: 201110459541.7
• 申請日: 2011-12-31
• 公開（公告）號: CN103186056A
• 公開（公告）日: 2013-07-03
• 發明（設計）人: 伍強;郝靜安
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 駱蘇華

1.一種浸沒式光刻系統的投影系統，包括：

投影透鏡；

液體池，位于投影透鏡的曝光場中，作為投影透鏡的曝光媒介；

液體供給裝置，位于投影透鏡的外圍；

其特征在于，還包括：

至少兩個氣體噴淋裝置，依次分布于液體供給裝置的外圍；

抽吸裝置，位于最外側氣體噴淋裝置的外圍。

2.根據權利要求1所述的浸沒式光刻系統的投影系統，其特征在于：所述氣體噴淋裝置呈環形分布于液體供給裝置的外圍。

3.根據權利要求1所述的浸沒式光刻系統的投影系統，其特征在于：所述至少兩個氣體噴淋裝置包括：位于液體供給裝置外圍的第一氣體噴淋裝置，位于第一氣體噴淋裝置外圍的第二氣體噴淋裝置。

4.根據權利要求3所述的浸沒式光刻系統的投影系統，其特征在于：所述第一氣體噴淋裝置包括：第一氣體輸出端和位于第一氣體輸出端外圍的第一氣體輸入端。

5.根據權利要求4所述的浸沒式光刻系統的投影系統，其特征在于：所述第一氣體輸出端為負壓抽取型。

6.根據權利要求3所述的浸沒式光刻系統的投影系統，其特征在于：所述第二氣體噴淋裝置包括：位于第一氣體輸入端外圍的第二氣體輸出端和位于第二氣體輸出端外圍的第二氣體輸入端。

7.根據權利要求6所述的浸沒式光刻系統的投影系統，其特征在于：所述第二氣體輸出端為負壓抽取型。

8.根據權利要求1所述的浸沒式光刻系統的投影系統，其特征在于：所述至少兩個氣體噴淋裝置包括：位于液體供給裝置外圍的第一氣體噴淋裝置，位于第一氣體噴淋裝置外圍的第二氣體噴淋裝置，位于第二氣體噴淋裝置外圍的第三氣體噴淋裝置。

9.根據權利要求8所述的浸沒式光刻系統的投影系統，其特征在于：所述第一氣體噴淋裝置包括：第一氣體輸出端和位于第一氣體輸出端外圍的第一氣體輸入端。

10.根據權利要求8所述的浸沒式光刻系統的投影系統，其特征在于：所述第二氣體噴淋裝置包括：位于第一氣體輸入端外圍的第二氣體輸出端和位于第二氣體輸出端外圍的第二氣體輸入端。

11.根據權利要求8所述的浸沒式光刻系統的投影系統，其特征在于：所述第三氣體噴淋裝置包括：位于第二氣體輸入端外圍的第三氣體輸出端和位于第三氣體輸出端外圍的第三氣體輸入端。

12.根據權利要求11所述的浸沒式光刻系統的投影系統，其特征在于：所述第三氣體輸出端為負壓抽取型。

13.根據權利要求4至12任一項所述的浸沒式光刻系統的投影系統，其特征在于：氣體輸入端與氣體輸出端之間的間隔為0.1至20毫米。

14.根據權利要求10所述的浸沒式光刻系統的投影系統，其特征在于：氣體輸入端與氣體輸出端的寬度為0.1至20毫米。

15.根據權利要求1所述的浸沒式光刻系統的投影系統，其特征在于：還包括：襯底傳送裝置，位于氣液體噴淋裝置、液體供給裝置下方，用于裝載和傳送半導體襯底。

16.根據權利要求15所述的浸沒式光刻系統的投影系統，其特征在于：所述投影透鏡與襯底傳送裝置之間的距離為0.01至10mm。

17.根據權利要求1所述的浸沒式光刻系統的投影系統，其特征在于：所述液體供給裝置包括液體輸入管和液體輸出管，所述液體輸入管呈環形分布于投影透鏡外圍，所述液體輸出管呈環形分布于液體輸入管外圍。

18.根據權利要求17所述的浸沒式光刻系統的投影系統，其特征在于：液體輸入管和液體輸出管之間的間隔為0.1至20毫米。

19.根據權利要求18所述的浸沒式光刻系統的投影系統，其特征在于：所述液體輸出端為負壓抽取型。

20.根據權利要求1所述的浸沒式光刻系統的投影系統，其特征在于：所述抽吸裝置為負壓抽取型。