[發(fā)明專(zhuān)利]增強(qiáng)型半導(dǎo)體-金屬?gòu)?fù)合結(jié)構(gòu)磁場(chǎng)傳感器及其制備方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110459389.2 | 申請(qǐng)日: | 2011-12-31 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102520377A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-06-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 尹志崗;張興旺;吳金良;付振;張漢 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 中國(guó)科學(xué)院半導(dǎo)體研究所 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01R33/09 | 分類(lèi)號(hào): | G01R33/09;G01R3/00 |
| 代理公司: | 中科專(zhuān)利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 11021 | 代理人: | 湯保平 |
| 地址: | 100083 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 增強(qiáng) 半導(dǎo)體 金屬 復(fù)合 結(jié)構(gòu) 磁場(chǎng) 傳感器 及其 制備 方法 | ||
1.一種增強(qiáng)型半導(dǎo)體-金屬?gòu)?fù)合結(jié)構(gòu)磁場(chǎng)傳感器,包括:
一絕緣襯底;
一半導(dǎo)體材料層,為條狀結(jié)構(gòu),制作在絕緣襯底上;
兩條金屬電流引線(xiàn),制作在絕緣襯底上,其一端與半導(dǎo)體材料層的一側(cè)連接;
兩條金屬電壓引線(xiàn),制作在絕緣襯底上,其一端與半導(dǎo)體材料層的一側(cè)連接,并位于兩條金屬電流引線(xiàn)之間;
一金屬分流器,制作在絕緣襯底上,位于半導(dǎo)體材料層的一側(cè)并與之連接;
一絕緣層,制作在半導(dǎo)體材料層上;
一永磁層,制作在絕緣保護(hù)層上,該永磁層具有垂直磁各向異性;
一保護(hù)層,制作在永磁層上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增強(qiáng)型半導(dǎo)體-金屬?gòu)?fù)合結(jié)構(gòu)磁場(chǎng)傳感器,其中半導(dǎo)體材料層為InSb、InAs、InAsSb合金、二維電子氣材料或石墨烯。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的增強(qiáng)型半導(dǎo)體-金屬?gòu)?fù)合結(jié)構(gòu)磁場(chǎng)傳感器,其中永磁層的材料為SmCo5、Co與貴金屬組成的多層膜、Co與貴金屬組成的合金、Fe與貴金屬組成的多層膜或Fe與貴金屬組成的合金。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的增強(qiáng)型半導(dǎo)體-金屬?gòu)?fù)合結(jié)構(gòu)磁場(chǎng)傳感器,其中永磁層的厚度為10nm-10μm。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的增強(qiáng)型半導(dǎo)體-金屬?gòu)?fù)合結(jié)構(gòu)磁場(chǎng)傳感器,其中金屬電流引線(xiàn)、金屬電壓引線(xiàn)和金屬分流器與半導(dǎo)體材料層的接觸為歐姆接觸。
6.一種增強(qiáng)型半導(dǎo)體-金屬?gòu)?fù)合結(jié)構(gòu)磁場(chǎng)傳感器的制備方法,包括如下步驟:
步驟1:取一絕緣襯底,并將之清洗干凈;
步驟2:在絕緣襯底上生長(zhǎng)或通過(guò)層轉(zhuǎn)移技術(shù)制備一層具有高載流子遷移率的半導(dǎo)體材料層;
步驟3:在半導(dǎo)體材料層的表面覆蓋光刻膠,刻蝕,使剩余的半導(dǎo)體材料形成臺(tái)面結(jié)構(gòu);
步驟4:在半導(dǎo)體材料形成的臺(tái)面結(jié)構(gòu)兩側(cè)制作出兩條金屬電流引線(xiàn)、兩條金屬電壓引線(xiàn)及一金屬分流器;
步驟5:在半導(dǎo)體材料層的表面沉積絕緣層,該絕緣層可防止半導(dǎo)體材料層的氧化,又可將半導(dǎo)體材料層與后續(xù)制備的永磁層進(jìn)行電隔離;
步驟6:在絕緣層之上通過(guò)原位生長(zhǎng)或通過(guò)層轉(zhuǎn)移技術(shù)制備一具有垂直磁各向異性的永磁層;
步驟7:在永磁層上表面沉積一保護(hù)層,防止永磁層氧化;
步驟8:利用垂直磁場(chǎng)將永磁層磁化至飽和,退去磁場(chǎng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的增強(qiáng)型半導(dǎo)體-金屬?gòu)?fù)合結(jié)構(gòu)磁場(chǎng)傳感器的制備方法,其中半導(dǎo)體材料層為InSb、InAs、InAsSb合金、二維電子氣材料或石墨烯。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的增強(qiáng)型半導(dǎo)體-金屬?gòu)?fù)合結(jié)構(gòu)磁場(chǎng)傳感器的制備方法,其中永磁層的材料為SmCo5、Co與貴金屬組成的多層膜、Co與貴金屬組成的合金、Fe與貴金屬組成的多層膜或Fe與貴金屬組成的合金。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的增強(qiáng)型半導(dǎo)體-金屬?gòu)?fù)合結(jié)構(gòu)磁場(chǎng)傳感器的制備方法,其中永磁層的厚度為10nm-10μm。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的增強(qiáng)型半導(dǎo)體-金屬?gòu)?fù)合結(jié)構(gòu)磁場(chǎng)傳感器的制備方法,其中金屬電流引線(xiàn)、金屬電壓引線(xiàn)和金屬分流器與半導(dǎo)體材料層的接觸為歐姆接觸。
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