[發明專利]采用V型折疊腔的摻釹連續紫外激光器

無效

• 申請號: 201110458734.0
• 申請日: 2011-12-31
• 公開（公告）號: CN102522692A
• 公開（公告）日: 2012-06-27
• 發明（設計）人: 賈富強;姬彪;鄭新雙
• 申請（專利權）人: 廈門大學
• 主分類號: H01S3/16
• 分類號: H01S3/16;H01S3/08
• 代理公司: 廈門南強之路專利事務所 35200
• 代理人: 馬應森

1.采用V型折疊腔的摻釹連續紫外激光器，其特征在于設有激光二極管泵浦源、光學準直聚焦系統、第1激光諧振腔鏡、第2激光諧振腔鏡、第3激光諧振腔鏡、激光增益介質、二次諧波晶體和三次諧波晶體；所述激光二極管泵浦源、光學準直聚焦系統、第1激光諧振腔鏡、激光增益介質和第2激光諧振腔鏡依次設置在第一光軸上，第3激光諧振腔鏡、二次諧波晶體、三次諧波晶體和第2激光諧振腔鏡依次設置在第二光軸上，第一光軸與第二光軸交叉。

2.如權利要求1所述的采用V型折疊腔的摻釹連續紫外激光器，其特征在于所述激光二極管泵浦源采用激光二極管，激光二極管陣列，或光纖耦合輸出的激光二極管陣列。

3.如權利要求1所述的采用V型折疊腔的摻釹連續紫外激光器，其特征在于所述激光二極管泵浦源的泵浦光峰值輸出波長為0.81μm或0.88μm。

4.如權利要求1所述的采用V型折疊腔的摻釹連續紫外激光器，其特征在于所述激光增益介質選自Nd:YVO4、Nd:YAG、Nd:YLF、Nd:YAP、Nd:GdVO4中的一種，或采用把一塊激光增益介質和一塊或者兩塊純的非摻雜同質基底材料通過鍵合技術實現穩固結合的鍵合晶體。

5.如權利要求1或4所述的采用V型折疊腔的摻釹連續紫外激光器，其特征在于所述激光增益介質中釹的摻雜濃度范圍為0.1％～10％，晶體橫截面的尺寸可為諧振腔中基波激光光斑直徑的2～10倍。

6.如權利要求1所述的采用V型折疊腔的摻釹連續紫外激光器，其特征在于所述二次諧波晶體采用臨界相位匹配，非臨界相位匹配，或雙折射相位匹配或周期極化材料的準相位匹配；所述二次諧波晶體的類型可選自LBO、KTP、周期極化晶體PPLN、MgO:PPLN、PPSLT、PPLT、PPKTP中的一種。

7.如權利要求1所述的采用V型折疊腔的摻釹連續紫外激光器，其特征在于所述三次諧波晶體采用雙折射相位匹配或周期極化材料的準相位匹配；所述三次諧波晶體的類型可選自LBO、BIBO，BBO、CLBO、PPLN、MgO:PPLN、PPSLT、PPLT、PPKTP中的一種。

8.如權利要求1或7所述的采用V型折疊腔的摻釹連續紫外激光器，其特征在于所述三次諧波晶體的形狀為長方體；晶體端面以與光軸垂直，或與光軸成布儒斯特角。

9.如權利要求1所述的采用V型折疊腔的摻釹連續紫外激光器，其特征在于所述二次諧波晶體和三次諧波晶體采用級聯結構的周期極化晶體。

10.如權利要求1所述的采用V型折疊腔的摻釹連續紫外激光器，其特征在于所述級聯結構的周期極化晶體選自PPLN、MgO:PPLN、PPSLT、PPLT、PPKTP中的一種。