[發明專利]等離子顯示屏及其前基板介質層的制作工藝無效
| 申請號： | 201110458179.1 | 申請日： | 2011-12-31 |
| 公開（公告）號： | CN102496549A | 公開（公告）日： | 2012-06-13 |
| 發明（設計）人： | 丁海泉 | 申請（專利權）人： | 四川虹歐顯示器件有限公司 |
| 主分類號： | H01J11/38 | 分類號： | H01J11/38;H01J11/40;H01J11/10 |
| 代理公司： | 北京康信知識產權代理有限責任公司 11240 | 代理人： | 吳貴明;余剛 |
| 地址： | 621000 四川省綿陽市*** | 國省代碼： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 等離子 顯示屏 及其 前基板 介質 制作 工藝 | ||
1.一種等離子顯示屏，包括：
前基板(5)；
前基板介質層(8)，設置在所述前基板(5)的一側；
前基板介質保護層(11)，覆蓋在所述前基板介質層(8)背向所述前基板(5)的表面上，其特征在于，
所述前基板介質層(8)背向所述前基板(5)的表面上形成有多個第一凹陷(12)；
所述前基板介質保護層(11)背向所述前基板介質層(8)的表面上形成有對應所述第一凹陷(12)的第二凹陷(13)。
2.根據權利要求1所述的等離子顯示屏，其特征在于，多個所述第一凹陷(12)均勻分布在所述前基板介質層(8)背向所述前基板(5)的表面上。
3.根據權利要求2所述的等離子顯示屏，其特征在于，各個所述第一凹陷(12)的形狀相同且尺寸相同。
4.一種等離子顯示屏的前基板介質層的制作工藝，其特征在于，包括以下步驟：
在等離子顯示屏的前基板(5)的一側上形成前基板介質層(8)；
在所述前基板介質層(8)背向所述前基板(5)的表面上形成多個第一凹陷(12)；
在所述前基板介質層(8)背向所述前基板(5)的表面上形成前基板介質保護層(11)，并形成與所述第一凹陷(12)對應的第二凹陷(13)。
5.根據權利要求4所述的制作工藝，其特征在于，在所述前基板介質層(8)背向所述前基板(5)的表面上形成多個第一凹陷(12)的步驟中進一步包括以下步驟：
向形成所述前基板介質層的漿料中添加活性劑；
利用所述漿料制成所述前基板介質層(8)，使所述前基板介質層形成為表面具有多個所述第一凹陷(12)的結構。
6.根據權利要求4所述的制作工藝，其特征在于，在所述前基板介質層(8)背向所述前基板(5)的表面上形成多個第一凹陷(12)的步驟中進一步包括以下步驟：
利用漿料制成前基板介質層(8)，使所述前基板介質層(8)具有平滑表面；
在所述平滑表面上進行表面處理以在所述平滑表面上形成多個所述第一凹陷(12)。
7.根據權利要求6所述的制作工藝，其特征在于，在所述平滑表面上進行表面處理以在所述平滑表面上形成多個所述第一凹陷(12)的步驟中，通過溶液腐蝕形成所述前基板介質層(8)表面上的多個所述第一凹陷(12)。
8.根據權利要求7所述的制作工藝，其特征在于，所述溶液為酸性溶液或者堿性溶液。
9.根據權利要求6所述的制作工藝，其特征在于，在所述平滑表面上進行表面處理以在所述平滑表面上形成多個所述第一凹陷(12)的步驟中，通過噴砂形成所述前基板介質層(8)表面上的多個所述第一凹陷(12)。
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