[發明專利]沉積掩模

有效

• 申請號: 201110456767.1
• 申請日: 2011-12-27
• 公開（公告）號: CN102691031A
• 公開（公告）日: 2012-09-26
• 發明（設計）人: 小林郁典;高政佑;李相信;姜擇教
• 申請（專利權）人: 三星移動顯示器株式會社
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04
• 代理公司: 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286
• 代理人: 韓芳

于2011年3月24日在韓國知識產權局提交了第10-2011-0026424號韓國專利申請，該申請的公開通過引用全部包含于此。

技術領域

本發明涉及一種沉積掩模，更具體地講，涉及一種即使在向其施加拉力時仍可保持其圖案精度的沉積掩模。

背景技術

電致發光裝置是自發光顯示裝置，由于其寬視角、高對比度和高響應速度而作為下一代顯示裝置備受關注。

根據形成發光層的材料，將這些電致發光裝置分為無機電致發光裝置和有機電致發光裝置。有機電致發光裝置與無機電致發光裝置相比具有更高的亮度和更快的響應速度，并且有機電致發光裝置能夠顯示彩色圖像。由于這些優點，正在積極地開發有機電致發光裝置。

發明內容

根據一個實施例，提供了一種在拉力的作用下放置在掩模框架上的沉積掩模，所述沉積掩模包括由于施加到沉積掩模的拉力而沿行方向和列方向對包括第一初始設計圖案和第n初始設計圖案在內的第一初始設計圖案至第n初始設計圖案進行校正得到的第一校正圖案至第n校正圖案，第一初始設計圖案至第n初始設計圖案沿第一方向順序地布置，其中，第一校正圖案至第n校正圖案的最外側包括沿與第一方向平行的方向延伸的第一最外側和沿與第一方向垂直的第二方向延伸的第二最外側，其中，第一最外側具有第一曲率并且相對于第一初始設計圖案和第n初始設計圖案向內凹進，第二最外側具有第二曲率并且相對于第一初始設計圖案至第n初始設計圖案向外凸出。

可以通過第一初始設計圖案和第n初始設計圖案中的每個初始設計圖案的與每個第一最外側對應的第一側的相對端部處的第一點和第二點以及在與施加拉力的方向相反的方向上與所述第一側的第一中點分開第一距離的第三點來確定第一曲率。

可以通過第一初始設計圖案至第n初始設計圖案中的每個初始設計圖案的與每個第二最外側對應的第二側的相對端部處的第四點和第五點以及在與施加拉力的方向垂直的方向上與所述第二側的第二中點分開第二距離的第六點來確定第二曲率。

第一校正圖案至第n校正圖案中的每個可以包括多條縫隙線。

由于拉力，可以將縫隙線布置在第一校正圖案至第n校正圖案中的每個校正圖案中。

所述沉積掩模還可以包括在拉力的作用下放置在掩模框架上的第一裝置圖案至第n裝置圖案，其中，第一裝置圖案至第n裝置圖案中的每個具有由第一方向限定的第一長度和由第二方向限定的第一寬度，第一初始設計圖案至第n初始設計圖案分別對應于第一裝置圖案至第n裝置圖案，并且具有由第一方向限定的第二長度和由第二方向限定的第二寬度，其中，第二長度小于第一長度，第二寬度大于第一寬度。

第二長度與第一長度的比和第二寬度相對于第一寬度的比可以由拉力的大小來確定。

第一校正圖案至第n校正圖案可以包括第二校正圖案和第(n-1)校正圖案，第一校正圖案至第n校正圖案中的每個校正圖案和第一初始設計圖案至第n初始設計圖案中的每個初始設計圖案可以包括至少四側，其中，第一校正圖案包括包括在第一最外側中的第一側、包括在第二最外側中的第二側和第三側以及面向第二校正圖案的第四側，第n校正圖案包括包括在第一最外側中的第一側、包括在第二最外側中的第二側和第三側以及面向第(n-1)校正圖案的第四側，第二校正圖案至第(n-1)校正圖案中的每個包括包括在第二最外側中的第二側和第三側、面向前一校正圖案的第一側以及面向下一校正圖案的第四側。

第一校正圖案的第一側可以相對于第一初始設計圖案向內凹進，第n校正圖案的第一側可以相對于第n初始設計圖案向內凹進，第一校正圖案至第n校正圖案的第二側和第三側可以相對于第一初始設計圖案至第n初始設計圖案向外凸出。

第一初始設計圖案至第n初始設計圖案中的每個可以對應于放置在掩模框架上的多個顯示面板中的任何一個顯示面板。

第一初始設計圖案至第n初始設計圖案中的每個可以包括多個開口。

根據另一實施例，提供了一種在拉力的作用下放置在掩模框架上的沉積掩模，所述沉積掩模包括沿著與施加到沉積掩模的拉力的方向平行的第一方向分別對應于按行布置的多個顯示面板的第一校正圖案至第n校正圖案，其中，第一校正圖案至第n校正圖案的最外側包括沿與第一方向平行的方向延伸的第一最外側和沿與第一方向垂直的第二方向延伸的第二最外側，其中，第一最外側具有第一曲率并且相對于第一初始設計圖案和第n初始設計圖案向內凹進，第二最外側具有第二曲率并且相對于第一初始設計圖案至第n初始設計圖案向外凸出。