[發明專利]一種工廠化低光照環境下草坪快速成坪的生長調節劑無效
| 申請號: | 201110456343.5 | 申請日: | 2011-12-30 |
| 公開(公告)號: | CN102531780A | 公開(公告)日: | 2012-07-04 |
| 發明(設計)人: | 安淵;周鵬;任曉燕;高小燕;馬力 | 申請(專利權)人: | 上海交通大學 |
| 主分類號: | C05G3/00 | 分類號: | C05G3/00 |
| 代理公司: | 上海漢聲知識產權代理有限公司 31236 | 代理人: | 郭國中 |
| 地址: | 200240 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 工廠 光照 環境 草坪 速成 生長 調節劑 | ||
1.一種工廠化低光照環境下草坪快速成坪的生長調節劑,其特征在于,由生長促進液,植物營養液,碳源營養液和清水混合組成,每升該生長調節劑中含有生長促進液1-2ml,植物營養液1-2ml,碳源營養液8-10ml,清水為余量。
2.根據權利要求1所述的一種工廠化低光照環境下草坪快速成坪的生長調節劑,其特征是,所述的生長促進液由赤霉素GA和α-萘乙酸NAA、清水組成;
所述的植物營養液由鋅Zn、鎂Mg和錳Mn、清水組成;
所述的碳源營養液由琥珀酸和檸檬酸、清水組成。
3.根據權利要求2所述的一種工廠化低光照環境下草坪快速成坪的生長調節劑,其特征是,每升該生長調節劑中含有赤霉素GA:144-288μmol/L,α-萘乙酸NAA:8-16μmol/L。
4.根據權利要求1或2或3所述的一種工廠化低光照環境下草坪快速成坪的生長調節劑,其特征是,每升該生長促進液中含有赤霉素GA:144mmol/L和α-萘乙酸NAA:8mmol/L。
5.根據權利要求2所述的一種工廠化低光照環境下草坪快速成坪的生長調節劑,其特征是,每升該生長調節劑中含有Zn:1-2mmol/L,Mg:4-8mmol/L,Mn:1-2mmol/L。
6.根據權利要求1或2或5所述的一種工廠化低光照環境下草坪快速成坪的生長調節劑,其特征是,每升該植物營養液中含有Zn:1mol/L、Mg:4mol/L和Mn:1mol/L。
7.根據權利要求2所述的一種工廠化低光照環境下草坪快速成坪的生長調節劑,其特征是,每升該生長調節劑中含有琥珀酸:80-100μmol/L,檸檬酸:80-100μmol/L。
8.根據權利要求1或2或7所述的一種工廠化低光照環境下草坪快速成坪的生長調節劑,其特征是,每升該碳源營養液中含有琥珀酸:10mmol/L和檸檬酸:10mmol/L。
9.根據權利要求1或2所述的一種工廠化低光照環境下草坪快速成坪的生長調節劑,其特征是,每升該生長調節劑中含有赤霉素GA:144-288μmol/L,α-萘乙酸NAA:8-16μmol/L,Zn:1-2mmol/L,Mg:4-8mmol/L,Mn:1-2mmol/L,琥珀酸:80-100μmol/L,檸檬酸:80-100μmol/L。
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