[發(fā)明專利]半導(dǎo)體器件有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110456183.4 | 申請(qǐng)日: | 2011-12-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102569357A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-07-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 玉城朋宏;中澤芳人 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 瑞薩電子株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | H01L29/06 | 分類號(hào): | H01L29/06 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所 11256 | 代理人: | 王茂華;董典紅 |
| 地址: | 日本神*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體器件 | ||
1.一種半導(dǎo)體器件,包括:
(a)半導(dǎo)體芯片,具有第一主表面和第二主表面,所述第一主表面設(shè)置有功率MOSFET的源極電極,所述第二主表面設(shè)置有所述功率MOSFET的漏極電極;
(b)第一導(dǎo)電類型的漂移區(qū)域,設(shè)置在所述半導(dǎo)體芯片的基本上整個(gè)第一主表面中;
(c)基本上設(shè)置在所述第一主表面的中間部分處的基本上矩形的有源單元區(qū)域、沿著所述有源單元區(qū)域的各個(gè)側(cè)部設(shè)置在所述有源單元區(qū)域的外側(cè)的外圍側(cè)部區(qū)域以及設(shè)置在所述有源單元區(qū)域的各個(gè)拐角部分的外側(cè)的外圍拐角區(qū)域;
(d)第一超結(jié)結(jié)構(gòu),具有第一取向,并且設(shè)置在所述單元區(qū)域的基本上整個(gè)表面中和所述漂移區(qū)域中;
(e)第二超結(jié)結(jié)構(gòu)和第三超結(jié)結(jié)構(gòu),每個(gè)都具有與所述第一超結(jié)結(jié)構(gòu)的寬度和取向基本上相同的寬度和取向,并且在所述第一超結(jié)結(jié)構(gòu)的第一取向的方向中設(shè)置在所述有源單元區(qū)域的兩側(cè)上的每個(gè)所述外圍側(cè)部區(qū)域的漂移區(qū)域中從而耦合到所述第一超結(jié)結(jié)構(gòu);
(f)第四超結(jié)結(jié)構(gòu)和第五超結(jié)結(jié)構(gòu),每個(gè)都具有與所述第一超結(jié)結(jié)構(gòu)的取向基本上正交的取向,并在與所述第一超結(jié)結(jié)構(gòu)的第一取向的方向正交的方向上設(shè)置在所述有源單元區(qū)域的兩側(cè)上的每個(gè)所述外圍側(cè)部區(qū)域的漂移區(qū)域中;
(g)第二導(dǎo)電類型的主結(jié)區(qū)域,其為所述有源單元區(qū)域的外端部分并且設(shè)置在所述漂移區(qū)域的表面中使得圍繞所述有源單元區(qū)域;以及
(h)所述第二導(dǎo)電類型的表面降低表面場(chǎng)區(qū)域,設(shè)置在所述漂移區(qū)域的表面中使得耦合到所述主結(jié)區(qū)域的外端并圍繞所述主結(jié)區(qū)域,
其中所述表面降低表面場(chǎng)區(qū)域的外端位于所述主結(jié)區(qū)域的外端與由所述第二至第五超結(jié)結(jié)構(gòu)形成的外圍超結(jié)區(qū)域的外端之間的中間區(qū)域中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的半導(dǎo)體器件,
其中所述表面降低表面場(chǎng)區(qū)域的外端基本位于所述主結(jié)區(qū)域的外端與由所述第二至第五超結(jié)結(jié)構(gòu)形成的所述外圍超結(jié)區(qū)域的外端之間的中部處。
3.根據(jù)權(quán)利要求2的半導(dǎo)體器件,
其中所述第一至第五超結(jié)結(jié)構(gòu)由溝槽外延填充方法形成。
4.根據(jù)權(quán)利要求3的半導(dǎo)體器件,
其中,在由所述第二至第五超結(jié)結(jié)構(gòu)形成的所述外圍超結(jié)區(qū)域之上,設(shè)置在該區(qū)域之上環(huán)行延伸的多個(gè)浮置場(chǎng)板。
5.根據(jù)權(quán)利要求4的半導(dǎo)體器件,
其中每個(gè)所述浮置場(chǎng)板呈現(xiàn)矩形框形狀,所述矩形框形狀的每個(gè)拐角部分都被彎曲成直角。
6.根據(jù)權(quán)利要求4的半導(dǎo)體器件,
其中每個(gè)所述浮置場(chǎng)板呈現(xiàn)矩形框形狀,所述矩形框形狀的每個(gè)拐角部分都被圓弧化。
7.根據(jù)權(quán)利要求5的半導(dǎo)體器件,
其中每個(gè)所述外圍拐角區(qū)域設(shè)置有拐角部分超結(jié)結(jié)構(gòu),所述拐角部分超結(jié)結(jié)構(gòu)關(guān)于延伸通過(guò)所述拐角部分超結(jié)結(jié)構(gòu)的所述半導(dǎo)體芯片的對(duì)角線是基本上線對(duì)稱的,并且所述拐角部分超結(jié)結(jié)構(gòu)的一部分關(guān)于所述對(duì)角線而鄰近于所述第四超結(jié)結(jié)構(gòu)且具有與所述第四超結(jié)結(jié)構(gòu)的寬度和取向基本上相同的寬度和取向,以及所述拐角部分超結(jié)結(jié)構(gòu)的一部分關(guān)于所述對(duì)角線而鄰近于所述第二超結(jié)結(jié)構(gòu)且具有與所述第二超結(jié)結(jié)構(gòu)的寬度和取向基本上相同的寬度和取向。
8.根據(jù)權(quán)利要求5的半導(dǎo)體器件,
其中每個(gè)所述外圍拐角區(qū)域設(shè)置有具有與所述第四超結(jié)結(jié)構(gòu)的寬度和取向基本上相同的寬度和取向的拐角部分超結(jié)結(jié)構(gòu)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8的半導(dǎo)體器件,
其中所述拐角部分超結(jié)結(jié)構(gòu)具有削減的外部。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過(guò)對(duì)一個(gè)不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過(guò)施加于器件的磁場(chǎng)變化可控的





