[發明專利]銦鎵鋅氧化物(IGZO)納米粉體及其制備方法與應用有效
| 申請號: | 201110455651.6 | 申請日: | 2011-12-27 |
| 公開(公告)號: | CN103130493A | 公開(公告)日: | 2013-06-05 |
| 發明(設計)人: | 周力行;周育賢;楊智超 | 申請(專利權)人: | 財團法人工業技術研究院 |
| 主分類號: | C04B35/01 | 分類號: | C04B35/01;C04B35/626 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金國 |
| 地址: | 中國臺灣新竹*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 銦鎵鋅 氧化物 igzo 納米 及其 制備 方法 應用 | ||
1.一種銦鎵鋅氧化物(IGZO)納米粉體,包括:
一InGaZnO4晶體結構以及一微量元素,其中該InGaZnO4晶體結構如式(I)所示:
x(In2O3)-y(Ga2O3)-z(ZnO)????(I)
其中,x∶y∶z=1∶1∶0.5-2,以及該微量元素包括硼和/或鋁,含量介于約100-1000ppm。
2.如權利要求1所述的銦鎵鋅氧化物(IGZO)納米粉體,其純度大于約99%。
3.如權利要求1所述的銦鎵鋅氧化物(IGZO)納米粉體,其為一單相的InGaZnO4晶體結構。
4.如權利要求1所述的銦鎵鋅氧化物(IGZO)納米粉體,其中不含ZnGa2O4尖晶石相。
5.如權利要求1所述的銦鎵鋅氧化物(IGZO)納米粉體的平均粒徑約小于100nm,徑長比約等于1。
6.一種濺鍍用靶材,由權利要求1至5中任一項所述的銦鎵鋅氧化物(IGZO)納米粉體,經均壓成形及燒結處理而得。
7.一種銦鎵鋅氧化物(IGZO)納米粉體的制備方法,包括:
將一銦金屬化合物、一鎵金屬化合物及一鋅金屬化合物溶于一溶劑中,其中該銦金屬化合物、該鎵金屬化合物及該鋅金屬化合物中銦∶鎵∶鋅的摩爾比為2∶2∶1~1∶1∶1;
加入一微量元素及一沉淀劑以產生一沉淀物,其中該微量元素包括硼和/或鋁,含量介于約100-1000ppm;以及
以700-1400℃燒結該沉淀物以形成一含銦鎵鋅氧化物納米粉體。
8.如權利要求7所述的銦鎵鋅氧化物(IGZO)納米粉體的制備方法,其中在燒結該沉淀物之前還包括清洗并分離該沉淀物。
9.如權利要求7所述的銦鎵鋅氧化物(IGZO)納米粉體的制備方法,其中該銦金屬化合物包括硝酸銦、硫酸銦、亞硫酸銦、磷酸銦、次磷酸銦,該鎵金屬化合物包括硝酸鎵、硫酸鎵、亞硫酸鎵、磷酸鎵、次磷酸鎵,以及該鋅金屬化合物包括硝酸鋅、硫酸鋅、亞硫酸鋅、磷酸鋅、次磷酸鋅、或上述的混合。
10.如權利要求7所述的銦鎵鋅氧化物(IGZO)納米粉體的制備方法,其中該沉淀劑包括氨水、氫氧化鈉、氫氧化鉀或上述的組合。
11.如權利要求7所述的銦鎵鋅氧化物(IGZO)納米粉體的制備方法,其中該高溫燒結溫度介于約800-1200℃。
12.如權利要求7所述的銦鎵鋅氧化物(IGZO)納米粉體的制備方法,其中該含銦鎵鋅氧化物(IGZO)納米粉體,其純度大于約99%。
13.如權利要求7所述的銦鎵鋅氧化物(IGZO)納米粉體的制備方法,其中該含銦鎵鋅氧化物(IGZO)納米粉體為一單相的InGaZnO4晶體結構。
14.如權利要求7所述的銦鎵鋅氧化物(IGZO)納米粉體的制備方法,其中該含銦鎵鋅氧化物(IGZO)納米粉體不含ZnGa2O4尖晶石相。
15.如權利要求7所述的銦鎵鋅氧化物(IGZO)納米粉體的制備方法,其中該含銦鎵鋅氧化物(IGZO)納米粉體的平均粒徑約小于100nm,徑長比約等于1。
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