[發明專利]一種光刻條件控制方法無效
| 申請號： | 201110455195.5 | 申請日： | 2011-12-30 |
| 公開（公告）號： | CN103186053A | 公開（公告）日： | 2013-07-03 |
| 發明（設計）人： | 黃瑋 | 申請（專利權）人： | 無錫華潤上華科技有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人： | 常亮;李辰 |
| 地址： | 214028 江蘇省無*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 光刻 條件 控制 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種光刻條件控制方法，其特征在于，該控制方法包括步驟：
提供N個批次產品，對該N個批次產品的至少一測量參數進行測量；
根據上述測量所得的測量參數計算得出至少一曝光參數最佳值，將該曝光參數最佳值按產品批次進行一統計處理；
判斷該曝光參數最佳值的統計結果，并根據該統計結果對當前光刻工藝實施一統計工藝控制。
2.如權利要求1所述的控制方法，其特征在于：所述測量參數包括條寬或套刻。
3.如權利要求2所述的控制方法，其特征在于：所述條寬對應的曝光參數為曝光能量。
4.如權利要求2所述的控制方法，其特征在于：所述套刻對應的曝光參數包括：X/Y方向偏移量、X/Y膨脹系統、旋轉度或正交性。
5.如權利要求1所述的控制方法，其特征在于：所述統計處理為將該曝光參數最佳值按批次繪制成統計曲線。
6.如權利要求5所述的控制方法，其特征在于：所述統計曲線的變化趨勢決定所述統計結果。
7.如權利要求6所述的控制方法，其特征在于：所述統計曲線的變化趨勢為該曝光參數最佳值的各批次分布按一基準值做隨機波動，對N+1批次產品，以上述曝光參數最佳值做加權計算得出的曝光參數優化值為實際曝光條件，進行光刻工藝。
8.如權利要求6所述的控制方法，其特征在于：所述統計曲線的變化趨勢為該曝光參數最佳值的各批次分布按一方向做趨勢變化，則停止當前光刻工藝。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于無錫華潤上華科技有限公司，未經無錫華潤上華科技有限公司許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110455195.5/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
