[發明專利]涂抹器裝置、涂抹器以及涂抹器套件

有效

• 申請號: 201110453423.5
• 申請日: 2011-12-30
• 公開（公告）號: CN102525090A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發明（設計）人: D·庫里克
• 申請（專利權）人: 格卡有限公司
• 主分類號: A45D40/26
• 分類號: A45D40/26
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 吳鵬;馬江立

1.一種涂抹器裝置，其尤其用于睫毛膏涂抹器，所述涂抹器裝置具有芯體(2)，涂抹機構(6)從所述芯體延伸離開，其中，借助于原型工藝制造所述涂抹器裝置(1)，

其特征在于，

沿著所述芯體(2)縱軸線(L)的縱向延伸(100)觀察，所述涂抹機構(5)至少在局部排成行列(R₁、R₂、R₃)，并且所述涂抹機構具有中軸線(M)，其中，所述涂抹機構(5)的所述中軸線(M)具有至少一個波紋，所述波紋包括至少一次曲率交替，并且所述涂抹機構(5)的所述中軸線(M)完全或者大致完全位于一個平面(E)內或者展開一個平面(E)。

2.根據權利要求1所述的涂抹器裝置，其特征在于，所述涂抹器裝置(1)具有第一區域(B1)和第二區域(B2)，所述第一區域具有第一類型的涂抹機構(5)和/或第一類型的芯體(2)，所述第二區域具有第二類型的涂抹機構(6)和/或第二類型的芯體(2)。

3.根據權利要求1所述的涂抹器裝置，其特征在于，一個行列(R₁、R₂、R₃)的涂抹機構(5)的中軸線(M)位于一個共同的平面(E)內和/或所述平面(E)平行于所述涂抹器裝置(1)的縱軸線(L)，所述平面(E)尤其是包含縱軸線(L)，或者所述平面大致平行于所述縱軸線(L)。

4.根據前述權利要求之一所述的涂抹器裝置，其特征在于，關于所述芯體(2)彼此對置的兩個行列(R₁、R₂、R₃...R_n)的涂抹機構(5)的中軸線(M)位于一個共同的平面(E)內。

5.根據前述權利要求之一所述的涂抹器裝置，其特征在于，相鄰行列(R₁、R₂)的涂抹機構(5)的中軸線(M)的波紋是以彼此相反的方式構造的。

6.根據前述權利要求之一所述的涂抹器裝置，其特征在于，所有波紋形的涂抹機構(5)的涂抹機構(5)中軸線(M)的波紋是彼此相同的，即，在波幅、波長、取向和/或曲率變化方面是彼此相同的。

7.根據前述權利要求之一所述的涂抹器裝置，其特征在于，所述波紋形的涂抹機構(5)關于其空間形狀以及其徑向延伸是以彼此相同的方式構成的。

8.根據前述權利要求之一所述的涂抹器裝置，其特征在于，為了構造朝向所述涂抹器(1)的自由和/或遠端端部(4)錐形延伸的涂抹器(1)，所述芯體(2)按照錐形方式構成，并且在所述第二區域(B2)中，所述芯體具有與所述第一區域(B1)相同的涂抹機構組。

9.根據前述權利要求之一所述的涂抹器裝置，其特征在于，為了朝向所述遠端端部(4)錐形地構成所述涂抹器裝置(1)，所述芯體(2)在所述第二區域(B2)中按照圓柱形構成，尤其是按照與所述第一區域(B1)相同的方式延伸構成，并且在所述第二區域(B2)中存在第二類型的涂抹機構組，所述第二類型的涂抹機構組沒有波紋，其中，所述第二類型的涂抹機構(6)的徑向延伸(100)在從所述芯體(2)向所述涂抹器裝置(1)的所述遠端端部(4)的方向上減小。

10.根據前述權利要求之一所述的涂抹器裝置，其特征在于，為了朝向所述遠端端部(4)錐形地構成所述涂抹器裝置(1)，所述芯體(2)在所述第二區域(B2)中按照圓柱形構成，尤其是按照與所述第一區域(B1)相同的方式延伸構成，并且在所述第二區域(B2)中存在第二類型的涂抹機構組，所述第二類型的涂抹機構組沒有波紋或者所述第二區域(B2)的所述涂抹機構(6)至少部分具有波紋，所述波紋對應于在所述第一區域(B1)中的所述涂抹機構(5)的波紋，其中，在所述第二區域(B2)中的所述涂抹機構(6)的縱向延伸被縮短，例如被磨短。

11.根據前述權利要求之一所述的涂抹器裝置，其特征在于，所述第二區域(B2)的所述涂抹機構(6)是錐形的刷毛、盤片、部分盤片、齒等。

12.根據前述權利要求之一所述的涂抹器裝置，其特征在于，所述波紋形的涂抹機構(5)的全部自由端部(8)均指向所述涂抹器(1)的所述遠端端部(4)。