[發明專利]涂抹器裝置、涂抹器以及涂抹器套件

有效

• 申請號: 201110453329.X
• 申請日: 2011-12-30
• 公開（公告）號: CN102525089A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發明（設計）人: D·庫里克;C·皮利普
• 申請（專利權）人: 格卡有限公司
• 主分類號: A45D40/26
• 分類號: A45D40/26
• 代理公司: 北京市中咨律師事務所 11247
• 代理人: 吳鵬;馬江立

1.一種涂抹器裝置，其具有支座(2)，所述支座具有由多個涂抹機構(3)組成的涂抹機構組，

其中，至少一個涂抹機構(3)沿其縱向延伸具有至少一個更接近所述支座的第一部分(10)和至少一個遠離所述支座(2)的第二部分(20)，

并且所述涂抹機構(3)的至少一個部分(10、20)具有彎曲延伸的縱軸中線(M1、M2)，

其特征在于，

所述第一部分和所述第二部分(10、12)的所述縱軸中線(M1、M2)或者所述縱軸中線的端部切線在從所述第一部分到所述第二部分的過渡區中，在所述涂抹機構(3)的剖面(E)的至少一個投影中以構成轉折點(K)的方式相交。

2.根據權利要求1所述的涂抹器裝置，其特征在于，所述涂抹機構(3)的另一部分(10；20)的所述縱軸中線(M1、M2)是筆直的或者彎曲的。

3.根據權利要求1或2所述的涂抹器裝置，其特征在于，所述第一部分(10)具有彎曲的縱軸中線(M1)，所述第二部分(20)具有筆直的縱軸中線(M2)，所述彎曲的縱軸中線和所述筆直的縱軸中線或者它們在過渡區側的端部切線在所述過渡區中以角度(β)相交。

4.根據前述權利要求之一所述的涂抹器裝置，其特征在于，所述第一部分(10)具有筆直延伸的縱軸中線(M1)，所述第二部分(20)具有彎曲延伸的縱軸中線(M2)，所述筆直延伸的縱軸中線和所述彎曲延伸的縱軸中線或者它們在過渡區側的端部切線在所述過渡區中以角度(β)相交。

5.根據前述權利要求之一所述的涂抹器裝置，其特征在于，兩個所述部分(10、20)均具有彎曲延伸的縱軸中線(M1；M2)，所述縱軸中線或者其在過渡區側的端部切線在所述過渡區中以角度(β)相交。

6.根據前述權利要求之一所述的涂抹器裝置，其特征在于，所述角度(β)在30°至170°之間的范圍內，尤其是在45°至120°之間的范圍內，特別優選在60°至90°之間的范圍內。

7.根據前述權利要求之一所述的涂抹器裝置，其特征在于，所述轉折點(K)具有一最大圓角半徑(R)，其中，所述最大圓角半徑(R)在0＜R＜D之間的范圍內，優選在0＜R＜0.5D之間的范圍內，特別優選在0＜R＜0.3D之間的范圍內，其中D是所述涂抹機構(3)在所述過渡區中的直徑。

8.根據前述權利要求之一所述的涂抹器裝置，其特征在于，所述第二部分(20)的縱軸中線(M2)在所述涂抹機構(3)的自由端部(11)的區域中與所述涂抹器裝置(1)的縱軸線(L)形成角度(γ)，其中，所述角度(γ)的值為0≤γ≤90°，尤其是15°≤γ≤75°，特別優選的是30°≤γ≤60°。

9.根據前述權利要求之一所述的涂抹器裝置，其特征在于，所述第一部分(10)具有一高度(h1)并且整個所述涂抹機構(3)具有一高度(h)，其中，所述涂抹機構(3)的所述第一部分(10)以一幅度(h1)從所述涂抹器裝置(1)的所述支座(2)延伸出來，或者其中，所述涂抹機構(3)以一幅度(h)作為整體從所述涂抹器裝置(1)的所述支座(2)延伸出來。

10.根據前述權利要求之一所述的涂抹器裝置，其特征在于，h1∶h之比在0.1至0.9之間的范圍內，尤其在0.4至0.8之間的范圍內，特別優選在0.3至0.6之間的范圍內。

11.根據前述權利要求之一所述的涂抹器裝置，其特征在于，所述第一部分和所述第二部分(10、20)的中軸線(M1、M2)的彎曲是相同類型的，也就是說符號相同，在數值方面相等或者不相等。

12.根據前述權利要求之一所述的涂抹器裝置，其特征在于，所述第一部分和所述第二部分(10、20)的中軸線(M1；M2)的彎曲是彼此反向的，也就是說具有彼此不同的符號。

13.根據前述權利要求之一所述的涂抹器裝置，其特征在于，所述第一部分和所述第二部分(10；20)的中軸線(M1、M2)的彎曲中點(KR)位于所述涂抹機構(3)的不同側。

14.根據前述權利要求之一所述的涂抹器裝置，其特征在于，所述第一部分(10)的中軸線(M1)或者在所述第一部分(10)的中軸線(M1)的根部點(15)處的切線相對于所述涂抹器裝置(1)的縱軸線(L)或者相對于所述支座(2)的外表面(12)具有角度(α)。