[發明專利]注入裝置及處理設備

有效

• 申請號: 201110452845.0
• 申請日: 2011-12-30
• 公開（公告）號: CN103184432A
• 公開（公告）日: 2013-07-03
• 發明（設計）人: 三重野文健
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（北京）有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455
• 代理公司: 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 劉倜

1.一種用于將處理氣體注入處理腔室的注入裝置，其特征在于，所述注入裝置包括注入板，所述注入板具有多個噴嘴，通過所述噴嘴將所述處理氣體注入處理腔室，

其中所述噴嘴包括：

形成在注入板中的注入孔，以及

遮蔽物，其與所述注入孔對應以遮蔽所述注入孔；

其中，所述遮蔽物為微致動器。

2.如權利要求1所述的注入裝置，其特征在于，其中所述微致動器能夠被單獨控制或者成組地控制。

3.如權利要求1所述的注入裝置，其特征在于，其中所述微致動器為靜電微致動器，其包括一個或多個遮蔽單元，所述遮蔽單元包括：

彈性主體，其由第一彈性材料形成；

正電極，其附連到用于正電極的彈性主體，

負電極，其附連到用于負電極的彈性主體，以及

第二彈性材料，設置在所述正電極和所述負電極之間，

其中，所述正電極和所述負電極彼此電分隔，并且

其中，通過所述正電極和負電極施加靜電力來使所述第一彈性材料和所述第二彈性材料發生形變，從而控制對對應的注入孔的遮蔽。

4.如權利要求3所述的注入裝置，其特征在于，其中所述遮蔽單元能夠被單獨控制或者成組地控制。

5.如權利要求3所述的注入裝置，其特征在于，其中所述正電極和負電極交替設置。

6.如權利要求3所述的注入裝置，其特征在于，其中所述正電極和負電極的表面進一步形成有絕緣材料層。

7.如權利要求3所述的注入裝置，其特征在于，其中第二彈性材料將比所述第一彈性材料易于發生變形。

8.如權利要求3所述的注入裝置，其特征在于，其中相鄰的所述遮蔽單元之間在未發生變形的正常情況下形成有間隙。

9.如權利要求3所述的注入裝置，其特征在于，其中相鄰的所述彈性主體之間形成有供處理氣體通過的開口。

10.如權利要求1所述的注入裝置，其特征在于，其中所述注入板還具有：

多個傳感器，其每一與一個所述噴嘴對應以感測針對對應的噴嘴的參數。

11.如權利要求10所述的注入裝置，其特征在于，其中所述傳感器包括：

流量傳感器，以原位地感測通過對應的噴嘴的氣體的流量；和/或

溫度傳感器，以感測對應的噴嘴附近的溫度；和/或

壓力傳感器，以感測對應的噴嘴附近的壓力。

12.如權利要求1所述的注入裝置，其特征在于，其中所述注入板還具有：

無線通信裝置，其工作連接到所述微致動器，以無線地接收對微致動器的控制信號；

其中，所述控制信號用于控制微致動器對相應注入孔的遮蔽。

13.如權利要求10所述的注入裝置，其特征在于，其中所述注入板還具有：

無線通信裝置，其工作連接到所述微致動器和所述傳感器，以無線地發送傳感器的感測信號和接收對微致動器的控制信號；

其中，所述控制信號用于控制微致動器對相應注入孔的遮蔽。

14.如權利要求1所述的注入裝置，其特征在于，其中所述微致動器從所述注入裝置的邊緣到中心徑向地分布。

15.如權利要求1所述的注入裝置，其特征在于，其中所述微致動器從所述注入裝置的邊緣到中心彼此等距離地分布。

16.如權利要求11所述的注入裝置，其特征在于，其中根據設定的目標流量，利用流量傳感器的反饋閉環地自動控制所述微致動器對相應注入孔的遮蔽，從而將通過相應注入孔的流量基本維持于所述目標值。

17.如權利要求11所述的注入裝置，其特征在于，其中所述注入板由硅(Si)或碳化硅(SiC)制成，所述傳感器、無線通信裝置、所述致動器集成到所述注入板。

18.如權利要求1所述的注入裝置，其特征在于，其適于利用所述注入氣體在置于所述處理腔室中的工件上進行沉積或進行刻蝕。

19.如權利要求1所述的注入裝置，其特征在于，其中孔的尺寸為50μm至500μm，致動器的厚度為20μm至200μm。