[發(fā)明專利]具自轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)復合式真空濺鍍設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110451209.6
• 申請日: 2011-12-29
• 公開（公告）號: CN103184416A
• 公開（公告）日: 2013-07-03
• 發(fā)明（設計）人: 楊濟華;楊景富;卓廷彬;高于迦;吳政諺
• 申請（專利權(quán)）人: 財團法人金屬工業(yè)研究發(fā)展中心
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34
• 代理公司: 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127
• 代理人: 董惠石

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種用于鍍膜的工具，尤指一種具自轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)復合式真空濺鍍設備。

背景技術(shù)

濺鍍是指利用氬離子轟擊靶源，靶源原子被擊出后變成氣相并析鍍于待鍍物上，濺鍍具有以下優(yōu)點：一，可廣泛應用，幾乎任何材料均可鍍上鍍膜；二，無污染；三，附著性良好。

現(xiàn)有的真空濺鍍設備包含有一腔體、一滾筒、多個治具、一動力裝置及一靶臺；腔體內(nèi)為真空；滾筒軸向設于腔體的真空內(nèi)部空間內(nèi)，且具有一軸向開口；各治具環(huán)繞設置于滾筒內(nèi)；動力裝置使?jié)L筒及治具在腔體內(nèi)轉(zhuǎn)動；靶臺穿設滾筒，且靶臺上設有至少一靶源。

使用時，待鍍物設于治具上，而靶臺上的靶源則開始解離以提高滾筒內(nèi)的離子濃度，并使待鍍物可進行鍍膜；而由于靶臺不動，且靶臺上的靶源始終面對同一方向，因此正對靶源之處的離子濃度自然較他處為高；所以使用時，動力裝置會帶動滾筒、治具及待鍍物圍繞靶臺轉(zhuǎn)動，進而使各治具上的待鍍物，皆可輪流經(jīng)過高離子濃度之處，以達到各待鍍物均勻鍍膜的功效。

然而，即使各治具皆會輪流經(jīng)過靶源前方，但是由于每次經(jīng)過時，治具始終是同一面朝向靶源，因此各待鍍物上，其朝向靶源的面會因離子濃度較高而鍍得更厚，而背向靶源的面則會因離子濃度低而鍍得較薄，進而造成待鍍物上各面鍍膜厚度不一的缺點。

有鑒于前述現(xiàn)有技術(shù)的真空濺鍍設備，其無法均勻地鍍膜于待鍍物的每一面的缺點及不足，本發(fā)明提供一種具自轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)復合式真空濺鍍設備。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是在于提供一種具自轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)復合式真空濺鍍設備，其可進一步通過治具的自轉(zhuǎn)，以使治具上的待鍍物的每一面可輪流朝向靶源，進而達到均勻鍍膜的效果。

為達到上述的發(fā)明目的，本發(fā)明提出一種具自轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)復合式真空濺鍍設備，其中包含：

一腔體，其具有一可形成真空的內(nèi)部空間；

一滾筒，其設于腔體的內(nèi)部空間內(nèi)；

多個治具，其皆設于滾筒內(nèi)，且環(huán)繞排列于滾筒的軸心外；

至少一靶臺，其設于滾筒內(nèi)，靶臺上設有至少一靶源；以及

一使各治具自轉(zhuǎn)并相對靶臺的靶源公轉(zhuǎn)的動力裝置。

本發(fā)明的優(yōu)點在于，通過使各治具在環(huán)繞靶臺的靶源公轉(zhuǎn)時，亦同時自轉(zhuǎn)，因此治具上的待鍍物，其每一面皆可輪流朝向靶源，進而使每一面皆可輪流接觸到離子濃度較高之處，以使各面的鍍膜厚度更為均勻。本發(fā)明借此達到使待鍍物的各面均勻鍍膜的目的。

進一步而言，所述的具自轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)復合式真空濺鍍設備，其中動力裝置包含有一動力源及一傳動機構(gòu)，其動力源連接并驅(qū)動傳動機構(gòu)，傳動機構(gòu)連接并驅(qū)動各治具，并使各治具可相對靶臺的靶源公轉(zhuǎn)，并且于公轉(zhuǎn)時，各治具同時自轉(zhuǎn)。

進一步而言，所述的具自轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)復合式真空濺鍍設備，其中動力裝置的傳動機構(gòu)包含有一中心齒輪及多個環(huán)繞齒輪，中心齒輪固設于滾筒的軸向底面；環(huán)繞齒輪樞設于滾筒的軸向底面，且環(huán)繞并嚙合于中心齒輪，前述的治具固設于相對應的環(huán)繞齒輪軸心；動力源驅(qū)動中心齒輪轉(zhuǎn)動。

進一步而言，所述的具自轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)復合式真空濺鍍設備，其中各治具包含有一主桿及多個固定件，主桿端部固設于相對應的環(huán)繞齒輪軸心，各固定件間隔設置于主桿上。

進一步而言，所述的具自轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)復合式真空濺鍍設備，其中各固定件包含有一直桿、多個橫桿及一固定桿；直桿設于主桿上；各橫桿一端間隔設置于直桿上；固定桿裝設于各橫桿上，且位于橫桿的另一端。

進一步而言，所述的具自轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)復合式真空濺鍍設備，其中腔體進一步具有一軸向的開口；另包含一門體，該門體可分離地蓋設于該腔體的軸向開口，該靶臺的一端連接該門體。

進一步而言，所述的具自轉(zhuǎn)及公轉(zhuǎn)復合式真空濺鍍設備，其中具有兩靶臺，兩靶臺的夾角小于180度。

附圖說明

以下附圖僅旨在于對本發(fā)明做示意性說明和解釋，并不限定本發(fā)明的范圍。其中：

圖1為本發(fā)明的側(cè)視剖面示意圖。

圖2為本發(fā)明的滾筒的立體外觀示意圖。

圖3為本發(fā)明的治具的立體外觀示意圖。

圖4為本發(fā)明的傳動機構(gòu)的示意圖。

圖5為本發(fā)明使用時的前視作動示意圖。

圖6為本發(fā)明的門體打開后的側(cè)視剖面示意圖。

主要元件標號說明：

10腔體????????????????????????20滾筒

30治具????????????????????????31主桿

32固定件??????????????????????321直桿