[發(fā)明專利]一種用于原子力顯微鏡檢測微孔形狀時的透射照明裝置無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110449493.3 | 申請日： | 2011-12-29 |
| 公開（公告）號： | CN102565459A | 公開（公告）日： | 2012-07-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 張海濤;裴舒;馬冬梅;金春水 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所 |
| 主分類號： | G01Q30/02 | 分類號： | G01Q30/02 |
| 代理公司： | 長春菁華專利商標(biāo)代理事務(wù)所 22210 | 代理人： | 南小平 |
| 地址： | 130033 吉*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 用于 原子 顯微鏡 檢測 微孔 形狀 透射 照明 裝置 | ||
1.一種原子力顯微鏡檢測微孔形狀時的透射照明裝置，其特征在于，該裝置包括光源(2)、第一聚光鏡組(3)、第一可變光闌(4)、第二可變光闌(5)、第二聚光鏡組(6)和光路轉(zhuǎn)折鏡(7)；所述光源(2)、第一聚光鏡組(3)、第一可變光闌(4)、第二可變光闌(5)和第二聚光鏡組(6)共軸放置且與光軸平行，所述光路轉(zhuǎn)折鏡(7)與光軸成45度夾角；所述第一聚光鏡組(3)位于光源(2)之后，所述第一可變光闌(4)位于第一聚光鏡組(3)之后且靠近第一聚光鏡組(3)的后表面，所述第二可變光闌(5)位于第一聚光鏡組(3)對光源(2)成像的位置，所述第二聚光鏡組(6)位于第二可變光闌(5)之后，所述轉(zhuǎn)折鏡(7)位于第二聚光鏡組(6)之后。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種原子力顯微鏡檢測微孔形狀時的透射照明裝置，其特征在于，所述光源(2)是白熾燈或者LED光源。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種原子力顯微鏡檢測微孔形狀時的透射照明裝置，其特征在于，所述轉(zhuǎn)折鏡(7)是直角棱鏡或者平面反射鏡。
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G01Q 掃描探針技術(shù)或設(shè)備；掃描探針技術(shù)的應(yīng)用，例如，掃描探針顯微術(shù)[SPM]
G01Q30-00 用于輔助或改進(jìn)掃描探針技術(shù)或設(shè)備的輔助手段，例如顯示或數(shù)據(jù)處理裝置
G01Q30-02 .非SPM的分析裝置，例如，SEM[掃描電子顯微鏡]，分光計或光學(xué)顯微鏡
G01Q30-04 .顯示或數(shù)據(jù)處理裝置
G01Q30-08 .建立或調(diào)節(jié)樣本室所需環(huán)境條件的手段
G01Q30-18 .保護(hù)或避免樣品室內(nèi)部受到外界環(huán)境狀況影響的手段，例如振動或電磁場
G01Q30-20 .樣品處理裝置或方法
