[發明專利]一種變量噴灑旋轉式噴頭的副噴嘴有效
| 申請號: | 201110448956.4 | 申請日: | 2011-12-29 |
| 公開(公告)號: | CN102513238A | 公開(公告)日: | 2012-06-27 |
| 發明(設計)人: | 袁壽其;劉俊萍;朱興業;李紅 | 申請(專利權)人: | 江蘇大學 |
| 主分類號: | B05B3/02 | 分類號: | B05B3/02 |
| 代理公司: | 南京知識律師事務所 32207 | 代理人: | 汪旭東 |
| 地址: | 212013 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 變量 噴灑 旋轉 噴頭 噴嘴 | ||
技術領域
本發明涉及一種變量噴灑旋轉式噴頭的副噴嘴,適用于工作壓力隨時間變化的旋轉式噴頭,改善由于壓力變化引起的噴灑水量分布不均勻現象,特指一種實現非圓形噴灑域的變量噴灑噴頭的副噴嘴。
背景技術
變量噴灑旋轉式噴頭是一種節水噴灌設備,在噴灑過程中,由于噴頭的壓力自動調節,使噴頭在不同旋轉角度壓力產生變化,噴灑射程改變,實現非圓形噴灑域。但在旋轉過程中,壓力的變化會影響徑向水量分布不均的情況,出現低壓處水量少,高壓處水量多的現象。以實現正方形噴灑為例,射程在由大變小的過程中,水量由多變少,影響了整個噴灑面上的水量分布。在國內外的噴頭產品中,噴頭副噴嘴可改善噴灑的水量分布,但現有副噴嘴的設計還不能夠改善由于壓力變化引起的旋轉一周范圍內的水量分布不均勻現象。因此,研制一種變量噴灑旋轉式噴頭的副噴嘴,能夠改善由于壓力變化引起的噴灑水量分布不均勻現象具有很重要的意義。
發明內容
本發明的目的是為變量旋轉式噴頭設計一種副噴嘴,解決變量旋轉式噴頭在實現非圓形噴灑域過程中由于旋轉過程中壓力變化所造成的旋轉一周范圍內水量分布不均勻問題。
本發明采用的技術方案是:在主噴頭噴管轉彎處增設一個副噴嘴,副噴嘴過流截面形狀為圓形。副噴嘴軸向中心線與主噴頭射流噴射方向之間的夾角角度大小為噴灑???????????????????????????????????????????????邊形噴灑域時主噴頭射流最長射程方向和最短射程方向之間的夾角角度,副噴嘴的出口上方設有副噴嘴薄蓋板,副噴嘴薄蓋板與副噴嘴連為一體,副噴嘴薄蓋板能夠彎曲角度,用來調節副噴嘴薄蓋板與副噴嘴的軸線方向之間的夾角。副噴嘴底部出口設有兩個傾斜度不同的分水流道,目的在于使水流沿不同流道方向噴灑到外部,使水量分散均勻。
本發明采用的副噴嘴通過與主噴嘴組合配置,使得噴頭在旋轉到任何位置時,主噴嘴和副噴嘴噴灑的水量可以相互袮補,使噴頭在旋轉一周范圍內噴灑均勻。這樣就解決了變量噴灑噴頭由于壓力變化引起的旋轉一周范圍內的水量分布不均勻現象。
附圖說明
圖1為噴頭噴管轉彎處結構示意圖。
圖2為圖1中的A-A剖面圖。
圖3為副噴嘴結構示意圖。
圖4為圖3虛線部分放大圖。
圖5為圖4的B-B剖面圖。
圖中:1.主噴頭的噴管轉彎處,2.副噴嘴安裝孔,3.副噴嘴安裝角,4.副噴嘴,5.副噴嘴薄蓋板,6.蓋板角度,7.副噴嘴直徑,8.?A分水流道,9.?B分水流道。
具體實施方式
如圖1所示:主噴頭的噴管轉彎處1開一個副噴嘴安裝孔2,副噴嘴安裝孔2的軸向方向與主噴頭主射流方向的夾角為圖2中的副噴嘴安裝角3,假設為所要噴灌的邊形噴灑域,則副噴嘴安裝角3的大小由主噴頭噴灑邊形噴灑域時的最長射程方向和最短射程方向之間的夾角決定,并且副噴嘴安裝角3的值滿足;截面為圓形的副噴嘴4與副噴嘴安裝孔2螺紋連接或焊接,當主噴頭旋轉過程中壓力升高時,流量增大,副噴嘴同主噴頭主射流一樣處于高壓狀態,此時的副噴嘴4的噴灑位置正好在主噴頭主射流的射程最小處,彌補主噴頭主射流射程最小處的水量。副噴嘴4的出口上方設有副噴嘴薄蓋板5,副噴嘴薄蓋板5與副噴嘴4為一體,副噴嘴薄蓋板5與副噴嘴4的射流方向之間的夾角為蓋板角度6(如圖3所示)。由于副噴嘴薄蓋板5較薄,能夠彎曲角度,設定蓋板角度6角度范圍為~,目的在于起到調整副噴嘴4的射程的作用。副噴嘴薄蓋板5的長度為1.5~2倍的副噴嘴直徑7。副噴嘴4的過流截面積為主噴嘴截面積的1/3~1/2。副噴嘴4的底部出口設有A分水流道8和B分水流道9(如圖4和圖5),A分水流道8和B分水流道9的流道傾斜度不同,目的在于使水流沿不同流道角度方向噴灑到外部,使水量分散均勻。
工作過程為:
首先將副噴嘴4與副噴嘴安裝孔2連接,此時副噴嘴安裝孔2的軸向方向與主噴頭主射流方向的夾角為噴灑域內主噴頭噴射的最長射程方向與最短射程方向之間的夾度。主噴頭在噴灑過程中,壓力低時,流量減少,副噴嘴同主射流一樣處于低壓狀態,由于副噴嘴位于主噴頭射流對應的射程較大處,彌補主噴頭噴射到該射程時的水量不足;相反,噴頭旋轉過程中壓力升高時,流量增大,副噴嘴同主射流一樣處于高壓狀態,副噴嘴位置在主噴頭射流對應的射程較小處,彌補主噴頭射流在到達該射程最小處的水量。在噴灑過程中,可以通過調節蓋板角度6以及依靠A分水流道8和B分水流道9的流道傾斜度,來調整副噴嘴的射程區域范圍。
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