[發明專利]微波勻膠設備及其方法

在審

• 申請號: 201110448765.8
• 申請日: 2011-12-28
• 公開（公告）號: CN103182359A
• 公開（公告）日: 2013-07-03
• 發明（設計）人: 王燕鵲;王磊
• 申請（專利權）人: 中國科學院微電子研究所
• 主分類號: B05C11/08
• 分類號: B05C11/08;B05D3/06
• 代理公司: 北京藍智輝煌知識產權代理事務所(普通合伙) 11345
• 代理人: 陳紅

1.一種微波勻膠設備，包括：

托盤(10)，安裝于腔室內部，用于吸附基片(9)；

噴嘴(7)，延伸入腔室內部，用于將去離子水、有機溶劑或光刻膠噴射到基片上；

微波發生裝置(11)，安裝于腔室側壁，用于產生微波對基片提供熱量；

溫控系統(12)，安裝于腔室上壁，用于控制微波發生裝置(11)以設定微波加熱的功率、頻率、時間。

2.如權利要求1所述的設備，進一步包括，去離子水儲罐(1)以及有機溶劑儲罐(4)，設置在腔室外部，用于向噴嘴(7)提供去離子水、有機溶劑。

3.如權利要求2所述的設備，進一步包括，第一組閥門(3，5)以及流量計(6)，設置在去離子水儲罐(1)和/或有機溶劑儲罐(4)與噴嘴(7)之間，用于控制噴射到基片表面的去離子水或有機溶劑的液體流量。

4.如權利要求2所述的設備，進一步包括，壓縮氮氣源(1)，連接至去離子水儲罐(1)和/或有機溶劑儲罐(4)，用于對去離子水或有機溶劑加壓，推動液體噴入噴嘴(7)。

5.如權利要求1所述的設備，進一步包括，滴膠管(8)，安裝于腔室上壁，用于容納光刻膠并向噴嘴(7)提供光刻膠。

6.如權利要求1所述的設備，進一步包括，排液口(16)，通過安裝于腔室下壁的第二組閥門(14)將腔室中的廢液排出。

7.如權利要求6所述的設備，進一步包括，真空泵(15)，安裝于腔室外，連接于托盤(10)以產生吸附基片的吸附力從而吸附基片，或者連接于排液口(16)以抽出腔室內的廢液和/或廢膠。

8.如權利要求1所述的設備，進一步包括，電機(13)，安裝于腔室外，驅動托盤(10)旋轉。

9.一種采用如權利要求1所述設備的微波勻膠方法，包括步驟：

步驟A，采用微波加熱對基片脫水；

步驟B，通過旋轉法在基片上涂敷光刻膠；以及

步驟C，采用微波加熱對基片干燥。

10.如權利要求9的方法，其中，步驟A具體包括，將基片(9)水平固定于托盤(10)上，關閉腔室，通過溫控系統(12)設置加熱溫度和時間，打開微波發生裝置(11)對基片進行微波加熱脫水；步驟B具體包括，開真空泵(15)將基片吸住，滴管垂直基片并固定在基片正上方，將光刻膠通過滴膠管(8)滴在勻速旋轉的基片上，在托盤旋轉產生的離心力作用下，溶膠迅速均勻鋪展在基片表面形成薄膜；步驟C具體包括，關閉腔室，再次通過溫控系統(12)設置加熱溫度和時間，對基片進行加熱，使薄膜受熱均勻。