[發明專利]一種加熱裝置、加熱方法及半導體加工設備

無效

• 申請號: 201110448615.7
• 申請日: 2011-12-27
• 公開（公告）號: CN103184435A
• 公開（公告）日: 2013-07-03
• 發明（設計）人: 武曄;韋剛
• 申請（專利權）人: 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司
• 主分類號: C23C16/46
• 分類號: C23C16/46;H01L21/67
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;張天舒

1.一種加熱裝置，包括感應線圈和與所述感應線圈連接的功率源，其特征在于，所述感應線圈包括三個以上縱向同軸且間隔放置的子線圈，在所述感應線圈與所述功率源之間設有用于調節所述子線圈輸出功率的功率調節器，以調節所述感應線圈的端部和中部的電流。

2.根據權利要求1所述加熱裝置，其特征在于，所述功率調節器包括功率調節網絡、驅動裝置以及控制器，其中，所述控制器用于提供所述子線圈的功率調節量；所述驅動裝置根據所述功率調節量提供相應的驅動力；所述功率調節網絡對所述子線圈的功率進行調節。

3.根據權利要求2所述加熱裝置，其特征在于，所述功率調節網絡包括兩個輸出端，其中一個輸出端與位于所述感應線圈中部的所述子線圈連接，另一個輸出端與位于所述感應線圈端部的所述子線圈連接。

4.根據權利要求2所述加熱裝置，其特征在于，所述功率調節網絡包括與所述子線圈數量對應的輸出端，每個所述輸出端分別與一所述子線圈連接，所述功率調節網絡對所述子線圈進行單獨控制。

5.根據權利要求2-4任意一項所述加熱裝置，其特征在于，所述功率調節網絡由可變電容或可變電感組成。

6.一種加熱方法，其特征在于，包括以下步驟：

將三個以上子線圈縱向同軸且間隔放置在一起，從而獲得感應線圈；

調節所述子線圈的輸出功率，以調節所述感應線圈的端部和中部的電流。

7.根據權利要求6所述加熱方法，其特征在于，調節所述子線圈的輸出功率的步驟包括：

獲取感應線圈中所述子線圈的功率調節量；

將所述子線圈的功率調節量傳輸至驅動裝置；

所述驅動裝置根據所述子線圈的功率調節量調節所述子線圈的輸出功率。

8.根據權利要求7所述加熱方法，其特征在于，所述子線圈的功率調節量通過以下方式獲得：

獲得所述子線圈對應位置處的當前溫度；

根據所述當前溫度獲得該子線圈的功率調節量。

9.根據權利要求6-8任意一項所述加熱方法，其特征在于，通過可變電容或可變電感實現對所述子線圈的功率調節。

10.一種半導體加工設備，包括反應腔室，在所述反應腔室內設有用于承載被加工工件的托盤，在反應腔室的外側設有加熱裝置，其特征在于，所述加熱裝置采用權利要求1-5任意一項所述的加熱裝置。

11.根據權利要求10所述的半導體加工設備，其特征在于，包括溫度傳感器和監測裝置，所述溫度傳感器用于監測被加工工件的溫度；所述監測裝置的輸入端與所述溫度傳感器連接，所述監測裝置的輸出端與所述控制器連接，所述監測裝置用于根據所述溫度傳感器的監測值向所述控制器發出功率調節指令，所述控制器根據所述功率調節指令獲得所述子線圈的功率調節量。