[發明專利]一種磁控管及等離子體加工設備

有效

• 申請號: 201110448612.3
• 申請日: 2011-12-26
• 公開（公告）號: CN103177918A
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發明（設計）人: 耿波;趙夢欣;劉旭;王厚工;丁培軍
• 申請（專利權）人: 北京北方微電子基地設備工藝研究中心有限責任公司
• 主分類號: H01J25/50
• 分類號: H01J25/50;H01J23/02;H01J37/32
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;張天舒

1.一種磁控管，包括極性相反的內磁極和外磁極，所述內磁極與所述外磁極相互不接觸地嵌套在一起，其特征在于，所述內磁極和外磁極在其徑向截面上的形狀均為螺旋線。

2.根據權利要求1所述的磁控管，其特征在于，所述內磁極和外磁極在其徑向截面上的形狀均滿足公式(1)，

θ＝r-arctan(r)?????(1)

式中，θ表示距離螺旋線起始點的弧度；

??????r表示距離螺旋線中心點的距離。

3.根據權利要求2所述的磁控管，其特征在于，所述內磁極包括內磁極本體和設置在所述內磁極本體上的多個磁鐵，所述磁鐵沿所述內磁極本體的弧線排列設置；所述外磁極包括外磁極本體和設置在所述外磁極本體上的多個磁鐵，所述磁鐵沿所述外磁極本體的弧線排列設置。

4.根據權利要求3所述的磁控管，其特征在于，設置在所述內磁極本體上的所述磁鐵沿所述內磁極本體的弧線均勻分布；設置在所述外磁極本體上的所述磁鐵沿所述外磁極本體的弧線均勻分布。

5.根據權利要求3或4所述的磁控管，其特征在于，所述磁鐵為柱狀的磁鐵，所述磁鐵鑲嵌在所述內磁極本體和所述外磁極本體內。

6.根據權利要求3或4所述的磁控管，其特征在于，在所述外磁極的徑向方向上，所述外磁極本體的內端部的寬度大于所述外磁極本體的外端部的寬度；或者在所述內磁極的徑向方向上，所述內磁極本體的內端部的寬度大于所述內磁極本體的外端部的寬度。

7.根據權利要求2所述的磁控管，其特征在于，在所述外磁極徑向的截面上，所述外磁極的外端部閉合，以使所述內磁極嵌套在所述外磁極內。

8.根據權利要求2所述的磁控管，其特征在于，磁控管的旋轉軸為所述外磁極的對稱軸或所述外磁極的內端部所在的直線。

9.根據權利要求2所述的磁控管，其特征在于，所述外磁極和所述內磁極的間距為0.5～1.5英寸。

10.根據權利要求2所述的磁控管，其特征在于，所述外磁極和所述內磁極的間距根據實際靶材腐蝕結果進行調整。

11.一種等離子體加工設備，包括反應腔室、靶材、磁控管以及驅動所述磁控管轉動的驅動部件，所述靶材設置在所述反應腔室的頂端，所述磁控管設置在所述靶材的上方，在所述驅動部件的驅動下所述磁控管在所述靶材的表面旋轉掃描，其特征在于，所述磁控管采用權利要求1-10任意一項所述的磁控管。