[發明專利]一種晶硅太陽能電池三層減反射膜及其制備工藝

無效

• 申請號: 201110448161.3
• 申請日: 2011-12-27
• 公開（公告）號: CN102496634A
• 公開（公告）日: 2012-06-13
• 發明（設計）人: 楊云霞;凌婧;袁雙龍;陳國榮
• 申請（專利權）人: 華東理工大學
• 主分類號: H01L31/0216
• 分類號: H01L31/0216
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種晶硅太陽能電池三層減反射膜，其特征在于：減反射膜由酸性納米TiO₂水溶膠、堿性納米TiO₂水溶膠和堿性納米SiO₂水溶膠的混和溶膠及堿性納米SiO₂水溶膠按TiO₂、TiO₂/SiO₂和SiO₂順序涂覆成三層薄膜構成。

2.根據權利要求1所述的酸性納米TiO₂水溶膠，其TiO₂的固含量的范圍為0.5～5％，納米TiO₂的顆粒尺寸為5～50nm，水溶膠的pH值范圍為2～5。

3.根據權利要求1所述的堿性納米TiO₂水溶膠，其TiO₂的固含量的范圍為0.5～5％，納米TiO₂的顆粒尺寸為5～20nm，水溶膠的pH值范圍為7～10。

4.根據權利要求1所述的堿性納米SiO₂水溶膠，其SiO₂的固含量的范圍為0.5～5％，納米SiO₂的顆粒尺寸為5～30nm，水溶膠的pH值范圍為8～10。

5.根據權利要求1所述的混合水溶膠，是由權利3和4所述的堿性納米TiO₂和SiO₂水溶膠按照TiO₂∶SiO₂重量比為0.3～3∶1的比例混合而成。

6.根據權利要求1所述的三層減反射膜，其中TiO₂、TiO₂/SiO₂和SiO₂薄膜的厚度分別為60～130nm、70～150nm和80～170nm。