[發明專利]放射攝影成像裝置以及放射攝影成像系統

無效

• 申請號: 201110446842.6
• 申請日: 2011-12-28
• 公開（公告）號: CN102579063A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發明（設計）人: 桑原孝夫
• 申請（專利權）人: 富士膠片株式會社
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00
• 代理公司: 中原信達知識產權代理有限責任公司 11219
• 代理人: 夏東棟;陸錦華

1.一種放射攝影成像裝置，其包括：

輻射源，其照射通過反康普頓散射產生的輻射；

第一光柵，在所述第一光柵處并排形成衍射或吸收輻射的第一構件，使得其間距在離從所述輻射源照射的輻射的中心位置的距離越大的地方則越大，所述第一光柵利用所述第一構件衍射或者吸收從所述輻射源照射的輻射；

布置在一位置處的第二光柵，在所述位置處通過由所述第一光柵衍射或者吸收的輻射產生Talbot(塔爾博特)干涉，并且在所述位置處并排形成吸收輻射的第二構件，使得其間距在離從所述輻射源照射的輻射的中心位置的距離越大的地方則越大；以及

輻射檢測器，其檢測已經通過所述第二光柵的輻射。

2.根據權利要求1所述的放射攝影成像裝置，其中，所述第一構件形成為使得所述第一構件之間的間距與來自所述輻射源的在所述第一光柵的相應位置處照射的輻射的波長λ的平方根成比例地變大。

3.根據權利要求1或權利要求2所述的放射攝影成像裝置，其中，所述第二構件形成有間距，所述第二構件的間距比所述第一光柵的所述第一構件的間距大從所述輻射源到所述第二光柵的距離與從所述輻射源到所述第一光柵的距離的比率。

4.根據權利要求1或權利要求2所述的放射攝影成像裝置，其中，所述輻射源能夠分離地照射具有不同能量的輻射，并且

準備多個第一光柵和第二光柵，其中，所述第一構件之間的間距以及所述第二構件之間的間距具有不同的變化程度，并且所述第一光柵和所述第二光柵是能夠交換的。

5.根據權利要求4所述的放射攝影成像裝置，其中，所述輻射源根據待成像的部分的厚度和類型中的至少一個而分離地照射具有不同能量的輻射。

6.根據權利要求1或權利要求2所述的放射攝影成像裝置，其中，所述第一光柵的第一構件和所述第二光柵的第二構件形成為使得其厚度在離從所述輻射源照射的輻射的中心位置的距離越大的地方則越薄。

7.一種放射攝影成像系統，其包括：

輻射源，其照射通過反康普度散射產生的輻射；

第一光柵，在所述第一光柵處并排形成衍射或吸收輻射的第一構件，使得其間距在離從所述輻射源照射的輻射的中心位置的距離越大的地方則越大，所述第一光柵利用所述第一構件衍射或者吸收從所述輻射源照射的輻射；

布置在一位置處的第二光柵，在所述位置處通過由所述第一光柵衍射或者吸收的輻射產生Talbot干涉，并且在所述位置處并排形成吸收輻射的第二構件，使得其間距在離從所述輻射源照射的輻射的中心位置的距離越大的地方則越大；以及

輻射檢測器，其檢測已經通過所述第二光柵的輻射。