[發(fā)明專利]熔鹽電解提煉設(shè)備及其提煉金屬的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110444602.2 | 申請(qǐng)日: | 2011-12-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102517611A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-06-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 姚力軍;相原俊夫;大巖一彥;潘杰;王學(xué)澤;趙凱 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 寧波江豐電子材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | C25C3/26 | 分類號(hào): | C25C3/26;C25C3/00;C25C7/00 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 駱蘇華 |
| 地址: | 315400 浙江省寧波市余姚*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電解 提煉 設(shè)備 及其 金屬 方法 | ||
1.一種熔鹽電解提煉設(shè)備,包括:提煉腔和電極桿,所述提煉腔包括腔體、設(shè)置于腔體底部的坩堝和設(shè)置于腔體頂部的開(kāi)口,所述電極桿通過(guò)所述開(kāi)口伸入至所述坩堝內(nèi),其特征在于,所述提煉腔還包括:
設(shè)置在所述提煉腔內(nèi)部的隔熱部件和隔離部件,所述隔離部件與所述腔體的頂部之間的腔體空間為第一空間,所述隔熱部件與所述隔離部件之間的腔體空間為第二空間,所述坩堝和所述隔熱部件之間的腔體空間為第三空間;
與所述腔體相連,用于將所述第一空間、第二空間和第三空間抽真空的抽真空裝置。
2.如權(quán)利要求1所述的熔鹽電解提煉設(shè)備,其特征在于,所述隔熱部件為隔熱閥。
3.如權(quán)利要求1所述的熔鹽電解提煉設(shè)備,其特征在于,所述隔離部件為真空閥。
4.如權(quán)利要求1所述的熔鹽電解提煉設(shè)備,其特征在于,所述抽真空裝置包括:第一連接部、第二連接部、羅茲泵及與其相連的直連泵,所述羅茲泵通過(guò)所述第一連接部與所述第一空間相連,通過(guò)所述第二連接部與所述第二空間相連。
5.如權(quán)利要求1所述的熔鹽電解提煉設(shè)備,其特征在于,還包括與所述電極桿相連、用于操控所述電極桿在所述腔體內(nèi)移動(dòng)的升降裝置。
6.如權(quán)利要求1所述的熔鹽電解提煉設(shè)備,其特征在于,還包括設(shè)置在所述提煉腔外側(cè)底部的加熱爐。
7.如權(quán)利要求1所述的熔鹽電解提煉設(shè)備,其特征在于,所述坩堝為石墨坩堝。
8.一種用權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述的熔鹽電解提煉設(shè)備提煉金屬的方法,其特征在于,包括:
將制造待提煉金屬的原材料與電解熔鹽置于所述坩堝中,通過(guò)所述隔熱部件隔開(kāi)所述第二空間和第三空間;
利用所述抽真空裝置將所述第一空間、第二空間和第三空間抽真空;
加熱所述坩堝;
將所述電極桿伸入所述坩堝內(nèi);
在所述電極桿上析出預(yù)定量的金屬時(shí),將所述電極桿提升至所述隔離部件之上,通過(guò)所述隔離部件隔開(kāi)所述第一空間和第二空間,取出所述金屬。
9.如權(quán)利要求8所述的提煉金屬的方法,其特征在于,還包括在取出所述金屬后,利用所述抽真空裝置將所述第一空間抽真空。
10.如權(quán)利要求8所述的提煉金屬的方法,其特征在于,所述金屬為高純鈦。
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