[發明專利]均勻域測試裝置及測試方法

無效

• 申請號: 201110443664.1
• 申請日: 2011-12-27
• 公開（公告）號: CN103185841A
• 公開（公告）日: 2013-07-03
• 發明（設計）人: 何小練
• 申請（專利權）人: 鴻富錦精密工業（深圳）有限公司;鴻海精密工業股份有限公司
• 主分類號: G01R31/00
• 分類號: G01R31/00;G01R1/067
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種均勻域測試裝置，適用于電磁場輻射抗擾度均勻域測試，其特征在于：該均勻域測試裝置包括測試架與安裝于測試架的若干場強探頭，該若干場強探頭位于同一平面內并呈陣列排布，位于同一行或同一列的相鄰的場強探頭的間距不小于電磁場輻射抗擾度均勻域測試中相鄰測試點的最小間距。

2.如權利要求1所述的均勻域測試裝置，其特征在于：所述場強探頭陣列的區域與電磁場輻射抗擾度均勻域測試所需的最大區域相一致。

3.如權利要求2所述的均勻域測試裝置，其特征在于：所述場強探頭可拆卸地裝設在測試架上。

4.如權利要求1所述的均勻域測試裝置，其特征在于：所述測試架包括底座、垂直立于底座之上且相互平行的兩個立柱及以預定高度間隔設置于立柱上且相互平行的若干水平橫桿，同一立柱上相鄰的橫桿的間距不小于電磁場輻射抗擾度均勻域測試中相鄰測試點的最小間距，兩立柱上同一高度的橫桿相對的端部的間距不小于電磁場輻射抗擾度均勻域測試中相鄰測試點的最小間距。

5.如權利要求4所述的均勻域測試裝置，其特征在于：所述若干橫桿位于同一豎直平面內，所述若干場強探頭分別安裝于該若干橫桿的兩端，以使該等場強探頭形成適應均勻域測試的平面區域。

6.一種使用權利要求1至5所述的任一均勻域測試裝置進行均勻域測試的方法，其特征在于包括如下步驟：

a.將所述均勻域測試裝置放入均勻域驗證平面區域中，使若干場強探頭分別對應該頻段均勻域驗證平面區域中的測試點；

b.進行第一頻段的均勻域的量測；

c.更換發射天線以使其適應第二頻段的均勻域的量測；

d.進行第二頻段的均勻域的量測；

e.判定測試結果。

7.如權利要求6所述的均勻域測試的方法，其特征在于：所述第一頻段為低頻段時，第二頻段為高頻段，當第一頻段為高頻段時，第二頻段為低頻段，該低頻段均勻域的量測中，使用低頻發射天線，該高頻段均勻域的量測中，使用高頻發射天線。

8.如權利要求6所述的均勻域測試的方法，其特征在于所述第一頻段及第二頻段的均勻域的量測還包括如下步驟：

f.發射預定極性的信號到該頻段均勻域驗證平面區域中；

g.調節發射功率，使某一場強探頭讀到一個預定場強，記錄此時發射功率及其余場強探頭的讀值；

h.以特定步長增加發射頻率，直到該頻段的頻率上限，記錄各個頻率點的發射功率及各場強探頭的讀值；

i.更換發射信號的極性，重復步驟g,h。

9.如權利要求8所述的均勻域測試的方法，其特征在于：所述低頻段的頻率范圍為80MHz~1000MHz，高頻段的頻率范圍為1GHz~3GHz。