[發明專利]提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的方法及結構

無效

• 申請號: 201110443308.X
• 申請日: 2011-12-27
• 公開（公告）號: CN103185685A
• 公開（公告）日: 2013-07-03
• 發明（設計）人: 黃其楊
• 申請（專利權）人: 貴陽鋁鎂設計研究院有限公司
• 主分類號: G01N9/24
• 分類號: G01N9/24;C01F7/02
• 代理公司: 貴陽中新專利商標事務所 52100
• 代理人: 劉楠;李亮

技術領域

本發明涉及一種測量方法及結構，尤其是一種提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的方法及結構。

背景技術

目前，在酸法制取氧化鋁生產過程中，溶出工段的密度測量至關重要，由于工藝物料的特殊性，工藝管道均采用鋼管內襯聚四氟乙烯材料，而且管道直徑大多為DN50甚至更小，根據核輻射密度計的安裝要求，要想在如此小直徑的管道上測量密度并獲得足夠的精度，通常的做法是：采用“Z”型管安裝，以擴大管徑，安裝方式如圖2所示。但是，對于內襯聚四氟乙烯材料的鋼管來說，由于受加工工藝的限制，并不能加工成如圖1所示的“Z”型管，而只能采用兩直角彎頭組裝成“Z”型管，如圖3所示。但是，這樣的結構由于“Z”型管中間有兩片法蘭，再加之兩直角彎頭的彎曲半徑不能太小，出現中間法蘭干擾，安裝困難，擴大直徑無法準確計算等問題，同樣不能獲得足夠的精度。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是，提供一種提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的方法及結構，它能有效提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度，并且安全簡單，以克服現有技術的不足。

本發明是這樣實現的：提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的方法，將溶出工段的工藝管道設置為U字形，并將核輻射密度計的點源以及探測器分別處于U字形工藝管道的豎直段的兩側，以增加測量通道的直徑，實現提高測量精度的目的。

提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的結構，包括工藝管道、核輻射密度計的點源、探測器，工藝管道為U字形結構，點源及探測器在工藝管道的上部設有基板底座，點源及探測器分別處于基板底座的兩端。

與現有技術相比，由于采用上述技術方案，本發明采用將溶出工段的工藝管道設置為U字形結構，使核輻射密度計的點源以及探測器分別處于U字形工藝管道的兩側，從而使測量通道的管徑增加一倍，而工藝管道壁厚按兩倍計算即可，這樣就能使密度測量能夠獲得足夠的精度，而且安裝方便，本發明不僅適用于內襯聚四氟管道安裝，而且對于類似的小管徑且不能加工成標準“Z”型管的情況均可適用。本發明的方法簡單，容易實施，所采用的結構容易制作，成本低廉，使用效果好。

附圖說明

圖1為本發明的結構示意圖；

圖2為現有技術的理想結構示意圖；

圖3為現有技術的實際結構示意圖；

附圖標記說明：

1-工藝管道、2-點源2、3-探測器、4-基板底座、5-法蘭。

具體實施方式

本發明的實施例：提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的方法，將溶出工段的工藝管道設置為U字形，并將核輻射密度計的點源以及探測器分別處于U字形工藝管道的豎直段的兩側（及U字形的上部），以增加測量通道的直徑，實現提高測量精度的目的。

提高核輻射密度計在溶出工段的測量精度的結構如圖1所示，包括工藝管道1、核輻射密度計的點源2、探測器3，工藝管道1為U字形結構，點源2及探測器3在工藝管道1的上部設有基板底座4，點源2及探測器3分別處于基板底座4的兩端。?

如圖1所示，由于采用上述結構，工藝管道1的連接法蘭5處于U字形的底部，這樣法蘭5就處于點源2與探測器3之間，從而不影響核輻射密度計的測量。