[發(fā)明專利]用于外部部件的表面涂覆方法和表面涂覆裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110438960.2
• 申請日: 2011-12-20
• 公開（公告）號: CN102650040A
• 公開（公告）日: 2012-08-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 大平重男;林镕弼;樸鐘培;秋星煥;金鐘和;金學(xué)柱;金世鎮(zhèn)
• 申請（專利權(quán)）人: 三星電子株式會社
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24;C23C14/50
• 代理公司: 北京銘碩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11286
• 代理人: 薛義丹;韓明星

1.一種用于外部部件的表面涂覆方法，所述表面涂覆方法包括：

在沉積室內(nèi)放置一個或多個將要被表面涂覆的外部部件預(yù)制品，所述外部部件預(yù)制品能夠轉(zhuǎn)動和旋轉(zhuǎn)；

在安裝于由外部部件預(yù)制品的轉(zhuǎn)動軌跡圍成的區(qū)域內(nèi)的蒸發(fā)裝置上放置一個或多個包含涂覆成分的塊；

通過在轉(zhuǎn)動和旋轉(zhuǎn)外部部件預(yù)制品的同時蒸發(fā)所述塊，將涂層沉積到每個外部部件預(yù)制品的表面上。

2.如權(quán)利要求1所述的表面涂覆方法，其中，涂覆成分包括防指紋成分和/或超斥水成分。

3.如權(quán)利要求1或2所述的表面涂覆方法，所述表面涂覆方法還包括：

將硅靶布置于安裝在沉積室內(nèi)的濺射裝置上；

在沉積涂層之前，在使用硅靶執(zhí)行濺射的同時將反應(yīng)氣體引入到沉積室內(nèi)，

其中，硅顆粒層形成在每個外部部件預(yù)制品的表面上。

4.如權(quán)利要求1所述的表面涂覆方法，其中，通過安裝在蒸發(fā)裝置上的加熱器來加熱和蒸發(fā)所述塊。

5.如權(quán)利要求1所述的表面涂覆方法，其中，當(dāng)放置所述塊時，將所述塊以均勻的間隔沿布置外部部件預(yù)制品的方向布置。

6.如權(quán)利要求1所述的表面涂覆方法，其中，當(dāng)放置所述塊時，將所述塊以均勻的間隔沿外部部件預(yù)制品的轉(zhuǎn)動方向布置。

7.一種用于外部部件的表面涂覆裝置，所述表面涂覆裝置包括：

安裝夾具，在安裝夾具上布置有將被涂覆的一個或多個對象，且所述安裝夾具被安裝為能夠轉(zhuǎn)動和旋轉(zhuǎn)；

蒸發(fā)裝置，安裝在由安裝夾具的轉(zhuǎn)動軌跡圍成的區(qū)域內(nèi)，

其中，一個或多個塊布置在蒸發(fā)裝置上，所述一個或多個塊中的每個塊包含涂覆成分。

8.如權(quán)利要求7所述的表面涂覆裝置，其中，所述安裝夾具沿一個方向延伸并關(guān)于沿安裝夾具的延伸方向布置的旋轉(zhuǎn)軸旋轉(zhuǎn)。

9.如權(quán)利要求8所述的表面涂覆裝置，其中，所述對象沿安裝夾具的延伸方向安裝，所述塊以均勻的間隔沿布置對象的方向布置。

10.如權(quán)利要求7所述的表面涂覆裝置，其中，以均勻的間隔沿安裝夾具的轉(zhuǎn)動方向布置多個安裝夾具。

11.如權(quán)利要求10所述的表面涂覆裝置，其中，所述塊以均勻的間隔沿安裝夾具的轉(zhuǎn)動方向布置。

12.如權(quán)利要求7所述的表面涂覆裝置，所述表面涂覆裝置還包括濺射裝置和氣體引入裝置，所述濺射裝置用于將硅顆粒濺射到沉積室中，所述氣體引入裝置用于將反應(yīng)氣體引入到沉積室中。