[發明專利]光刻設備和修正光刻設備內的輻射束的方法

有效

• 申請號: 201110435849.8
• 申請日: 2011-12-22
• 公開（公告）號: CN102540760A
• 公開（公告）日: 2012-07-04
• 發明（設計）人: 巴斯迪爾安·斯特凡努斯·亨德瑞克斯·詹森;M·J·A·魯賓
• 申請（專利權）人: ASML荷蘭有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 吳敬蓮

1.一種光刻設備，所述光刻設備包括安裝在輻射束路徑中的束修正設備，所述束修正設備包括：

管道，配置成允許流體從中流過，所述管道布置成使得在使用時輻射束穿過管道以及流過所述管道的流體；和

熱交換器，與在流體流動方向上設置在輻射束所穿過的管道位置的上游的管道部分熱連通。

2.如權利要求1所述的光刻設備，其中流體具有作為其溫度的函數進行改變的光學性質。

3.如權利要求2所述的光刻設備，其中光學性質是折射系數。

4.如前述權利要求中任一項所述的光刻設備，其中所述輻射束的基本上整個橫截面穿過所述管道。

5.如前述權利要求中任一項所述的光刻設備，還包括熱交換控制設備，所述熱交換控制設備配置成控制熱交換器以使得熱交換器能夠獨立地與多個管道部分進行熱交換，其中管道部分中的至少一個管道部分與其他的管道部分中的一個管道部分在跨過流體流動的方向的方向上間隔開。

6.如權利要求5所述的光刻設備，其中管道部分中的所述至少一個管道部分與其他的管道部分中的所述一個管道部分在大體垂直于流體流動方向的方向上間隔開。

7.如前述權利要求中任一項所述的光刻設備，其中流體流動的方向基本上垂直于輻射束的光軸。

8.如前述權利要求中任一項所述的光刻設備，其中光刻設備能夠以掃描模式操作，并且其中流體流動的方向大體平行于光刻設備的掃描方向。

9.如前述權利要求中任一項所述的光刻設備，其中光刻設備還包括流體提供設備，所述流體提供設備配置用以提供流體至所述管道，所述流體提供設備和管道配置成使得通過所述管道的流體流動是基本上層狀的。

10.如前述權利要求中任一項所述的光刻設備，其中光刻設備是浸沒光刻設備；所述管道至少部分地由浸沒罩限定；并且被允許流過管道的流體是浸沒流體。

11.如前述權利要求中任一項所述的光刻設備，其中光刻設備還包括輻射束操縱裝置，所述輻射束操縱裝置基本上位于光刻設備的投影系統的光瞳平面處，所述輻射束操縱裝置配置成操縱輻射束的空間頻率分布。

12.一種光刻設備，包括：

光學元件，用于與輻射束相互作用，輻射束限定光學區域；和

束修正設備；

其中所述束修正設備包括安裝至可移動構件的加熱設備，所述可移動構件能夠相對于光學元件在第一位置和第二位置之間移動，在所述第一位置處，加熱設備處于光學區域的外部，在所述第二位置處，加熱設備處于光學區域中；和

其中加熱設備配置成當可移動構件位于第二位置時加熱光學元件。

13.如權利要求12所述的光刻設備，其中所述加熱設備配置成當可移動構件處于第二位置時加熱光學元件的第一范圍，并且其中可移動構件能夠相對于光學元件移動至第三位置，在所述第三位置中，所述加熱設備配置成加熱光學元件的第二范圍。

14.如權利要求13所述的光刻設備，其中可移動構件配置成使得在第二位置和第三位置之間移動的過程中，加熱設備在光學元件上方通過。

15.如權利要求12至14中任一項所述的光刻設備，其中光刻設備能夠以掃描模式操作；可移動構件是圖案形成裝置支撐結構或襯底臺；并且第一位置和第二位置之間的相對移動是平移。