[發明專利]有機金屬化學氣相沉積機臺

無效

• 申請號: 201110434571.2
• 申請日: 2011-12-15
• 公開（公告）號: CN103160811A
• 公開（公告）日: 2013-06-19
• 發明（設計）人: 戴言培
• 申請（專利權）人: 麒安科技有限公司
• 主分類號: C23C16/458
• 分類號: C23C16/458;C23C16/18
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 馮志云;呂俊清

1.一種有機金屬化學氣相沉積機臺，包括有：

一反應腔體；

一上蓋，覆蓋在該反應腔體的開口處，能使反應腔體內形成一封閉空間；

一晶片承載盤，供欲加工的晶片放置其上；

一加熱裝置，安裝于反應腔體內，位置于該晶片承載盤之下，能對晶片承載盤加熱；

一機架，將該晶片承載盤固定于反應腔體內；

一供氣裝置，安裝于該上蓋處，能提供反應氣體朝該晶片承載盤表面施放；

一旋轉件，安裝于該供氣裝置與該晶片承載盤之間，受一驅動裝置帶動而旋轉，將反應氣體有效率地導引至該晶片承載盤表面。

2.如權利要求1所述的有機金屬化學氣相沉積機臺，其中該旋轉件旋轉一圈所涵蓋的范圍是包括晶片承載盤上所承載晶片的區域。

3.如權利要求1所述的有機金屬化學氣相沉積機臺，其中該旋轉件具有至少一導引桿。

4.如權利要求3所述的有機金屬化學氣相沉積機臺，其中該旋轉件具有數個呈放射狀分布的導引桿。

5.如權利要求1所述的有機金屬化學氣相沉積機臺，其中該旋轉件具有至少一葉片。

6.如權利要求5所述的有機金屬化學氣相沉積機臺，其中該旋轉件具有數個呈放射分布的葉片。