[發明專利]燃料噴射裝置有效
| 申請號: | 201110434371.7 | 申請日: | 2011-12-15 |
| 公開(公告)號: | CN102536562A | 公開(公告)日: | 2012-07-04 |
| 發明(設計)人: | 足立尚史;山下司 | 申請(專利權)人: | 株式會社電裝 |
| 主分類號: | F02M47/02 | 分類號: | F02M47/02 |
| 代理公司: | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人: | 王瓊 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 燃料 噴射 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及一種燃料噴射裝置,其控制施加到允許或中斷燃料從噴射孔噴射的閥構件上的壓力。
背景技術
專利文獻1至3(EP?1656498B1、JP?06-108948A、JP?4054621B2(對應US?2003/0052198A1))描述了關于燃料噴射的裝置,其具有壓力室和壓力控制機構。所述壓力室向允許或中斷燃料從噴射孔噴射的閥構件施加燃料壓力。所述壓力控制機構控制所述壓力室的內壓,以移動所述閥構件。在所述燃料噴射裝置中提出使用一種壓力響應類型的控制構件作為所述壓力控制機構,其響應因打開和關閉電磁閥引起的壓力變化而移動。在這種類型的燃料噴射裝置中,為實現期望的性能,燃料噴射裝置的每個部件需要精確地定位在每個適當的位置。
發明內容
鑒于前述問題,可能認為使用銷來將燃料噴射裝置的部件布置到適當的位置中。圖7是燃料噴射裝置P10的截面圖,作為本發明的對比實例,燃料噴射裝置P10使用對齊銷。閥針P1保持在噴嘴本體P2內部以打開和關閉噴射孔。噴嘴本體P2包括噴射孔。噴射本體P2利用保持螺母P4固定到孔構件P3。缸P5設置在噴嘴本體P2的內部。閥針P1的端部部分作為活塞插入到缸P5中。缸P5被擠壓到孔構件P3。壓力室限定在缸P5內部。浮板P6作為控制構件設置在壓力室內部。浮板P6控制燃料流入所述壓力室中和從所述壓力室中流出。
銷P71、P72設置在噴嘴本體P2和孔構件P3之間的位置中。銷P71、P72使噴嘴本體P2和孔構件P3定位在適當的位置。孔部分P81、P82布置在噴嘴本體P2中。孔部分P81保持銷P71,且孔部分P82保持銷P72。孔部分P91、P92布置在孔構件P3中。孔部分P91接收銷P71,且孔部分P92接收銷P72。
然而,使用銷P71、P72的對齊結構具有可能引起誤差的因素。例如因孔部分P81、P82、P91、P92的定位誤差、孔部分P81、P82、P91、P92的尺寸誤差和銷P71、P72的尺寸誤差等引起噴嘴本體P2和孔構件P3之間錯位。
例如,噴嘴本體P2和孔構件P3之間的錯位降低噴嘴本體P2的位置精度。上述錯位可能引起燃料通路之間的連通狀態變化。因此,上述錯位可能引起上述燃料噴射的特性變化。另外,上述燃料噴射的特性的改變可能發生在每種產品中。這種問題可能發生在使用缸P5的燃料噴射裝置和不使用缸P5的燃料噴射裝置中。而且,這種問題可能發生在使用壓力響應類型的控制構件的燃料噴射裝置和不使用壓力響應類型的控制構件的燃料噴射裝置中。
在使用缸P5的燃料噴射裝置中,噴嘴本體P2和孔構件P3的錯位引起例如孔構件P3和缸P5徑向錯位。由于這種錯位,可能達不到期望的燃料噴射性能。另外,所述燃料噴射的特性的改變可能發生在每種產品中。
噴嘴本體P2和孔構件P3的錯位可能對包括浮板P6的燃料噴射裝置引起顯著影響。圖8是部件之間具有間隔的對比實例的燃料噴射裝置的局部放大截面圖。圖9是部件之間具有間隔的對比實例的燃料噴射裝置的平面圖。當引起噴嘴本體P2和孔構件P3錯位時,孔構件P3的中心軸線AXP3和缸P5的中心軸線AXP5從它們的適當位置移動。此時,如圖9所示,孔構件P3和浮板P6之間的接觸部分(CS)沿其徑向方向偏移。此外,偏移量不是統一的。因此引起施加到浮板P6的壓力偏離。結果,浮板P6可能實現不了其期望的性能。具體地,可能實現不了期望的燃料噴射特性。而且,浮板P6的運動可能變得不穩定,因而燃料噴射特性可能不穩定。而且,浮板P6的運動可能在每種產品中改變,引起它們之間產品噴射特性的不同。
鑒于前述和其他問題,本發明的目的在于提供一種燃料噴射裝置,其中,所示部件在其徑向方向上精確定位。
本發明的另一目的在于提供一種燃料噴射裝置,其中,所述部件利用具有高生產能力的結構在其徑向方向上精確定位。
本發明的另一目的在于提供一種實現穩定的燃料噴射特性的燃料噴射裝置。
本發明的又一目的在于提供一種利用保證高生產能力的結構實現穩定的燃料噴射特性的燃料噴射裝置。
本發明的一個具體目的在于改進燃料噴射裝置中的燃料噴射特性,所述燃料噴射裝置包括限定壓力室的缸。
本發明的另一具體目的在于改進燃料噴射裝置的燃料噴射特性,所述噴流噴射裝置包括在其中布置控制構件的缸。
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