[發明專利]單光源雙相機的采集裝置有效
| 申請號: | 201110433469.0 | 申請日: | 2011-12-21 |
| 公開(公告)號: | CN103175569A | 公開(公告)日: | 2013-06-26 |
| 發明(設計)人: | 張廣秀;徐江偉 | 申請(專利權)人: | 北京兆維電子(集團)有限責任公司;北京兆維科技開發有限公司 |
| 主分類號: | G01D21/00 | 分類號: | G01D21/00 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 王瑩 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光源 相機 采集 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及圖像采集技術領域,特別涉及一種單光源雙相機的采集裝置。
背景技術
圖像采集與圖像處理技術在各種行業中的應用都非常廣泛,特別是在現代工業化生產中,越來越多的攝像機已經開始代替人眼完成那些繁瑣的工作,所以機器視覺技術就應運而生了,它不但可以為工廠降低雇傭成本,而且準確度也大大提高,而圖像采集裝置在機器視覺系統中又占有特別重要的地位,所以系統中的圖像采集方案決定了整套系統的優劣。圖像采集裝置中的光源一般分為條形光源、環形光源、同軸光源、線性光源及紅外紫外光源等,而相機一般按感光器件分為電荷耦合元件(Charge-coupled?Device,CCD)相機和互補金屬氧化物半導體(Complementary?Metal?Oxide?Semiconductor,CMOS)相機,按掃描方式分為線陣相機和面陣相機。
目前,很大一部分機器視覺系統生產廠商都是采用單一角度相機的采集方案,這種方案只能采集單一的圖像效果,如果所采集的特征對采集角度要求很苛刻,這種采集方案就無法捕捉到所有的特征信息,會造出系統的漏檢及誤判;也有部分廠商是采用多光源分別提供照明的方案,雖然這種方案的采集效果較好,但是結構復雜,不易調試,而且也增加了產品成本。
發明內容
(一)要解決的技術問題
本發明要解決的技術問題是:如何在不明顯增加結構復雜度和產品成本的情況下,采集多種圖像效果的圖像,以提高系統的檢測效率及正確率。
(二)技術方案
為解決上述技術問題,本發明提供了一種單光源雙相機的采集裝置,所述裝置包括:光源、至少一個明場相機、以及至少一個暗場相機,所述光源的出射光線照向待測目標版材上,所述至少一個明場相機設于所述待測目標版材的明場范圍內,所述至少一個暗場相機設于所述待測目標版材的暗場范圍內。
優選地,所述裝置還包括:漫反射板,所述漫反射板設于所述光源的出射光線的出口處。
優選地,所述裝置還包括:相互平行的主體型材、第一水平型材、以及第二水平型材,所述光源設于所述主體型材上,所述至少一個暗場相機和至少一個明場相機分別設于所述第一水平型材和第二水平型材上。
優選地,所述光源的出射光線與所述待測目標版材之間的夾角呈40~50度。
(三)有益效果
本發明通過設置明場相機和暗場相機,實現了在不明顯增加結構復雜度和產品成本的情況下,采集多種圖像效果的圖像,以提高系統的檢測效率及正確率。
附圖說明
圖1是按照本發明一種實施方式的單光源雙相機的采集裝置的結構示意圖。
具體實施方式
下面結合附圖和實施例,對本發明的具體實施方式作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本發明,但不用來限制本發明的范圍。
圖1是按照本發明一種實施方式的單光源雙相機的采集裝置的結構示意圖。本實施方式中,以一個暗場相機和一個明場相為例來說明本發明,但并不限定本發明的保護范圍。參照圖1,本實施方式的裝置包括:光源5、明場相機7、以及暗場相機6,所述光源5的出射光線照向待測目標版材上,所述明場相機7設于所述待測目標版材的明場范圍內,所述暗場相機6設于所述待測目標版材的暗場范圍內。
為防止在圖像采集時產生反光現象,以提供均勻的光源照明條件,優選地,所述裝置還包括:漫反射板8,所述漫反射板8設于所述光源5的出射光線出口處。
優選地,所述裝置還包括:相互平行的主體型材2、第一水平型材1、以及第二水平型材3,所述光源5設于所述主體型材2上,本實施方式中,所述光源5通過光源可調結構4設于所述主體型材2上,所述光源5通過螺釘與所述光源可調結構4連接,所述光源可調結構4用于調節所述光源5所發出的光與所述待測目標版材之間的夾角,所述暗場相機6和明場相機7分別設于所述第一水平型材1和第二水平型材3上,同時所述暗場相機6和明場相機7也可通過借助所述光源可調結構4相同的結構安裝于所述第一水平型材1和第二水平型材3上,安裝后可調節所述暗場相機6和明場相機7的高度與角度。
經過大量實驗證明,選擇光源5的出射光線與所述待測目標版材呈45°左右效果最佳,優選地,所述光源5的出射光線與所述待測目標版材之間的夾角呈40~50度。
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