[發(fā)明專利]光學(xué)分析裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110432455.7
• 申請日: 2011-12-21
• 公開（公告）號: CN102608029A
• 公開（公告）日: 2012-07-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 橫山一成;有本公彥
• 申請（專利權(quán)）人: 株式會社堀場制作所
• 主分類號: G01N21/01
• 分類號: G01N21/01;G01N21/31
• 代理公司: 北京信慧永光知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11290
• 代理人: 李雪春;武玉琴

1.一種光學(xué)分析裝置，其特征在于包括：

聚光光學(xué)系統(tǒng)，對光源發(fā)出的光進行聚光；

檢測光學(xué)系統(tǒng)，設(shè)置在由所述聚光光學(xué)系統(tǒng)聚光后的光的光路上，對所述光進行檢測；

測量單元，能在位于所述聚光光學(xué)系統(tǒng)和所述檢測光學(xué)系統(tǒng)之間的光路上的測量位置、以及從所述測量位置退避開的退避位置之間移動；

基準(zhǔn)修正構(gòu)件，能在位于所述聚光光學(xué)系統(tǒng)和所述檢測光學(xué)系統(tǒng)之間的光路上的基準(zhǔn)位置、以及從所述基準(zhǔn)位置退避開的退避位置之間移動，并且使在所述基準(zhǔn)位置上通過的光的焦點位置與通過位于所述測量位置上的測量單元的光的焦點位置基本相同；以及

移動機構(gòu)，用于移動所述測量單元和所述基準(zhǔn)修正構(gòu)件，選擇性地使所述測量單元移動到所述測量位置或者使所述基準(zhǔn)修正構(gòu)件移動到所述基準(zhǔn)位置，

至少所述基準(zhǔn)修正構(gòu)件的在所述基準(zhǔn)位置上與光路相交的外表面部分，由對腐蝕性氣體具有耐腐蝕性的耐腐蝕性材料形成。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)分析裝置，其特征在于，所述基準(zhǔn)修正構(gòu)件包括：光學(xué)玻璃；所述耐腐蝕性材料構(gòu)成的耐腐蝕性板材，與所述光學(xué)玻璃的光入射面和光射出面分別相對設(shè)置；以及密封構(gòu)件，對所述光學(xué)玻璃和所述耐腐蝕性板材之間進行密封。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)分析裝置，其特征在于，通過至少對光學(xué)玻璃的光入射面和光射出面涂布所述耐腐蝕性材料，構(gòu)成所述基準(zhǔn)修正構(gòu)件。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)分析裝置，其特征在于，通過隔著墊片重疊由所述耐腐蝕性材料組成的多枚耐腐蝕性板材，構(gòu)成所述基準(zhǔn)修正構(gòu)件。