[發明專利]用于襯底圓片的單面濕處理的裝置和方法

無效

• 申請號: 201110431032.3
• 申請日: 2011-12-20
• 公開（公告）號: CN102891078A
• 公開（公告）日: 2013-01-23
• 發明（設計）人: M·米歇爾;M·卡格勒;G·阿特斯
• 申請（專利權）人: 商先創光伏股份有限公司
• 主分類號: H01L21/306
• 分類號: H01L21/306;H01L21/677
• 代理公司: 上海專利商標事務所有限公司 31100
• 代理人: 顧峻峰

1.一種用于對襯底圓片(3)進行濕處理的裝置(1)，所述裝置具有如下部分：

多個池(5)，所述池分別具有用于引入工藝液體的至少一個第一入口(11)和平坦的水平方向的上邊緣；以及

運輸單元(7)，所述運輸單元用于運輸所述襯底圓片(3)經過沿所述運輸單元(7)的運輸方向(A)相繼設置的至少兩個所述池(5)，其中所述運輸單元(7)具有多個位于所述池(5)之外的襯底運送元件(22)，所述襯底運送元件從下面與待運送的襯底(3)接觸并運送所述襯底。

2.如權利要求1所述的裝置，其特征在于，從所述運輸單元的運輸方向看，至少在每個所述池的前面和后面設置至少一個襯底運送元件。

3.如前述權利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，至少一部分襯底運送元件是除了用于被運送的襯底的直線運動之外還提供所述襯底的向上和向下運動的類型。

4.如前述權利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，至少一部分襯底運送元件是運輸輥子，所述運輸輥子具有至少一個凸輪凸角。

5.如權利要求1至3中任一項所述的裝置，其特征在于，至少一部分襯底運送元件是運輸桿，所述運輸桿沿橢圓形軌道進行循環運動。

6.如前述權利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，在至少一個所述池(5)中設置至少一個第二入口，所述第二入口適合于使所述工藝液體垂直向上流動。

7.如權利要求6所述的裝置，其特征在于，所述第二入口在高度上位于所述第一入口上方。

8.如權利要求6或7所述的裝置，其特征在于，所述裝置具有控制單元，所述控制單元能夠經由所述至少一個第二入口將工藝液體引入具有所述至少一個第一和第二入口的池中，以使得已經過所述工藝池的所述上邊緣流動的工藝流體的液位被抬高到所述第二入口上方。

9.如前述權利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，所述第二入口具有水平延伸的管道部，所述管道部至少在所述池的一半寬度上延伸并具有至少一個朝向上的排出口。

10.如前述權利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，所述裝置具有至少一個抽氣單元，所述抽氣單元在與至少一個所述池相鄰處具有抽氣口，所述抽氣口位于所述池的所述上邊緣下方。

11.如前述權利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，所述池沿所述運輸單元(7)的所述運輸方向(A)具有這樣的長度，即所述長度與待處理的襯底圓片(3)沿所述運動單元(7)的所述運輸方向(A)的長度的最多一半一樣長，較佳為最多三分之一一樣長。

12.如前述權利要求中任一項所述的裝置，其特征在于，所述裝置具有至少一個收集槽，所述收集槽關于所述池(5)如此設置，以使得從所述池(5)中溢出的工藝液體被收集起來。

13.一種用于對襯底圓片(3)進行濕處理的方法(1)，在所述方法中，襯底圓片經由運輸單元(7)沿運輸方向(A)運輸經過沿運輸方向(A)相繼設置的至少兩個池(5)，

其中在運輸過程中，所述襯底圓片置于至少兩個襯底運送元件(22)上面，所述襯底運送元件設置在所述池(5)外面并從下面與所述襯底圓片(3)接觸，其中工藝液體分別如此引入所述池(5)中，以使得所述工藝液體至少局部地越過所述池的上邊緣，

并且其中所述襯底圓片(3)被如此運輸，以使所述工藝液體與所述襯底圓片(3)的底面接觸。

14.如權利要求13所述的方法，其特征在于，在運輸過程中，所述襯底圓片(3)的沿所述運輸方向(A)的前邊緣在其與所述工藝液體的至少局部越過所述池的上邊緣的那部分接觸之前被抬高，然后，所述襯底圓片從上面被降低到所述工藝液體的所述至少局部越過所述池的所述上邊緣的那部分上。

15.如權利要求13或14所述的方法，其特征在于，所述工藝液體被引入所述池中，從而提供所述工藝液體的局部限制的、垂直向上的流動，以使得在這種流動區域內的所述工藝液體局部越過它通常的液位。

16.如權利要求13至15中任一項所述的方法，其特征在于，所述工藝液體被引入所述池中，以使得所述工藝液體經所述池的上邊緣溢出。