[發明專利]一種應用于等離子處理裝置的氣體分布系統及驗證方法

有效

• 申請號: 201110431014.5
• 申請日: 2011-12-20
• 公開（公告）號: CN103177923A
• 公開（公告）日: 2013-06-26
• 發明（設計）人: 周旭升;周軍;孫海輝;范寶光
• 申請（專利權）人: 中微半導體設備（上海）有限公司
• 主分類號: H01J37/30
• 分類號: H01J37/30;G01F5/00
• 代理公司: 上海智信專利代理有限公司 31002
• 代理人: 王潔

1.一種應用于等離子處理裝置的氣體分布系統，

所述等離子處理器包括一個反應腔和氣體分布器，所述氣體分布器包括至少兩個獨立的氣體分布區向反應腔不同區域供應處理氣體，一個抽氣裝置與反應腔相聯通，排出反應腔中的處理氣體；

一個氣體供應源供應可控流量的處理氣體；

一個氣體分流器通過聯通到所述氣體供應源的供氣通道接收處理氣體；

所述氣體分流器分流所述處理氣體并通過第一和第二氣體通道供應到所述氣體分布器的兩個獨立氣體分布區；

其特征在于所述第一氣體通道還包括一個第一開關閥門連通到所述反應腔，以及一個旁路通道通過第一旁路開關閥門連通到所述抽氣裝置。

2.根據權利要求1所述的應用于等離子處理裝置的氣體分布系統，其特征在于，所述氣體分流器還包括一個第三氣體通道經過一個第三開關閥門連通到反應腔，以及一個旁路通道通過第三旁路開關閥門連通到所述抽氣裝置。

3.根據權利要求1所述的應用于等離子處理裝置的氣體分布系統，其特征在于，所述第二氣體通道包括一個第二開關閥門連通到所述反應腔，以及一個旁路通道通過第二旁路開關閥門連通到所述抽氣裝置。

4.一種應用于等離子處理裝置氣體分布系統的驗證方法，

所述等離子處理器包括一個反應腔和氣體分布器，所述氣體分布器包括至少兩個獨立的氣體分布區向反應腔不同區域供應處理氣體，一個氣體分流調節器通過至少兩個氣體通道向所述氣體分布器的至少兩個氣體分布區供氣，一個抽氣裝置與反應腔相聯通，排出反應腔中的處理氣體；

提供一個具有設定流量值的處理氣體；

分流所述具有設定流量值的處理氣體為第一部分和第二部分處理氣體，使其中第一部分處理氣體流入所述反應腔，其中第二部分處理氣體直接流入所述抽氣裝置；

測量所述流入反應腔的第一部分氣體氣壓，并計算第一部分處理氣體流量；

比較所述測量所得的第一部分氣體流量值與氣流參考值，判斷氣體分流調節器分流狀態，其中氣流參考值是所述設定流量值。

5.一種應用于等離子處理裝置氣體分布系統的驗證方法，

所述等離子處理器包括一個反應腔和氣體分布器，所述氣體分布器包括至少兩個獨立的氣體分布區向反應腔不同區域供應處理氣體，一個氣體分流調節器通過至少兩個氣體通道向所述氣體分布器的至少兩個氣體分布區供氣，一個抽氣裝置與反應腔相聯通，排出反應腔中的處理氣體；

提供一個具有設定流量值的處理氣體；

分流所述具有設定流量值的處理氣體為第一部分和第二部分處理氣體，使其中第一部分處理氣體流入所述反應腔，其中第二部分處理氣體直接流入所述抽氣裝置；

測量所述反應腔的氣壓，并計算第一部分處理氣體流量；

調整第一部分氣體和第二部分處理氣體比率再次測量反應腔氣壓，計算獲得第一部分氣體流量；

比較兩次測得所得的值判斷氣體分流調節器分流狀態。

6.根據權利要求4所述的應用于等離子處理裝置氣體分布系統的驗證方法，其特征在于，還包括整體氣流測量步驟：

將氣體分流調節器輸出的第一部分和第二部分氣體流入反應腔，測量反應腔氣壓并計算獲得整體氣流流量；

整體氣體流量作為氣流參考值，與測量所得的第一部分氣體流量值比較，判斷氣體分流調節器分流狀態。

7.根據權利要求4所述的應用于等離子處理裝置氣體分布系統的驗證方法，其特征在于，還包括第二部分處理氣體流量測量步驟：

氣體分流調節器輸出的第一部分氣體直接流入抽氣裝置，第二部分氣體流入反應腔，測量反應腔氣壓并計算獲得第二部分處理氣體流量；第二部分處理氣體流量作為流量參考值和所述第一部分處理氣體流量比較；判斷氣體分流調節器分流狀態。

8.根據權利要求4或5所述的應用于等離子處理裝置氣體分布系統的驗證方法，其中在判斷氣體分流調節器分流狀態為正常后進入等離子加工模式，根據工藝要求向反應腔的不同區域通入設定流量的反應氣體。