[發(fā)明專利]一種測量相變存儲器應力的MEMS傳感器及其制備工藝無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201110430329.8 | 申請日: | 2011-12-20 |
| 公開(公告)號: | CN102564650A | 公開(公告)日: | 2012-07-11 |
| 發(fā)明(設計)人: | 周文利;徐川;繆向水 | 申請(專利權)人: | 華中科技大學 |
| 主分類號: | G01L1/00 | 分類號: | G01L1/00;B81C1/00 |
| 代理公司: | 華中科技大學專利中心 42201 | 代理人: | 曹葆青 |
| 地址: | 430074 湖北*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 測量 相變 存儲器 應力 mems 傳感器 及其 制備 工藝 | ||
技術領域
本發(fā)明屬于器件材料力學性能測試技術領域,具體涉及相變存儲器中材料相變致應力的測量裝置,即一種測量相變存儲器應力的MEMS傳感器;本發(fā)明包括了這種MEMS傳感器結構的制備工藝。
背景技術
PCRAM相變存儲器由于具有高速,優(yōu)秀的尺寸縮小能力等特點被看好有望取代Flash成為下一代的非易失性存儲器。要實現(xiàn)PCRAM的商用化,需要解決PCRAM芯片在應用中的可靠性問題。提高PCRAM芯片的可靠性對于其商用化至關重要。
為了提高PCRAM器件的可靠性,需要對存儲單元進行失效分析,探討其失效機制。對于相變存儲器結構,一種重要的失效機制是經(jīng)過多次的擦寫循環(huán)后,相變材料與加熱層材料,電極材料,絕緣層材料的界面處產生機械應力,熱應力,在這些應力(Stress)作用下,使得相變材料熔化區(qū)發(fā)生流動,并最終使界面變粗糙甚至出現(xiàn)開路現(xiàn)象。因此,測量應力對解決PCRAM的失效問題,提高可靠性具有關鍵性的意義。
在標準化的集成電路工藝中,使用光學方法測量曲率來測量應力,其原理描述如下:
一個平坦的晶圓,其曲率為零,曲率半徑為無窮大。晶圓上沉積薄膜后,薄膜與晶圓之間的應力會導致晶圓發(fā)生形變,使得晶圓不再是一個平面而形成具有曲率半徑的球面。應力測試儀測量出這個曲率半徑,然后根據(jù)Stoney公式計算出薄膜應力。應力測試儀測量的應力是整個晶圓上的薄膜應力,無法反映某個具體區(qū)域的應力分布。
中國專利文獻“薄膜應力測試結構、測試方法及制造方法”(公開號CN101871825A,公開日2010.10.27)用懸臂梁的幾何放大原理來測量應力,為了用合適的放大系數(shù)來讀出應力值,需要懸臂梁的長度足夠長。在實際應用中這種結構會不可避免的出現(xiàn)懸空結構黏附在襯底上的問題,從而失去測量應力的實際應用功能。而且在這種方法中,忽略了懸臂梁結構在垂直于襯底平面上的位移。
鑒于上述現(xiàn)有技術的缺陷,本發(fā)明人采用了與上述方法不同的方法和結構,能夠避免上述技術方法的缺陷,提高實用性,適應相變存儲器器件應力測試的需要。
發(fā)明內容
本發(fā)明的目的在于提供一種測量相變存儲器應力的MEMS傳感器,該傳感器能準確測量相變存儲器單元擦寫過程產生的應力,其測試精度較高;本發(fā)明還提供了該傳感器的制備工藝。
本發(fā)明公開的一種測量相變存儲器應力的MEMS傳感器,其特征在于,該傳感器包括指示梁和電極,指示梁懸空在襯底上方,電極與指示梁電連接;根據(jù)指示梁的位移計算位于指示梁上的相變存儲器的應力。
作為上述技術方案的一種改進,所述指示梁由支撐梁和梳齒結構構成,支撐梁的一端由固定錨固定在襯底上,另一端與梳齒結構連接,使梳齒結構懸空在襯底上方;進一步地,所述梳齒結構由長度成等差數(shù)列的一對梳齒交互交錯組成,且各梳齒之間互不接觸;更進一步地,所述支撐梁在梳齒結構端的距離D=0.4~40μm,梳齒結構的長度LInd=0.5~150μm、支撐梁的偏轉角度Φ=20mrad~150mrad,支撐梁的跨度LBB=3μm~500μm,支撐梁的寬度bBB=12nm~3μm,支撐梁的厚度t=15nm~2μm。
作為上述技術方案的另一種改進,指示梁為一根直梁;進一步地,該指示梁的跨度LFF為0.5~500μm,指示梁的寬度bFF為12nm~3μm,指示梁的厚度t為20nm~4μm。
本發(fā)明提供的所述的MEMS傳感器的制備工藝,其特征在于,該工藝包括下述步驟:
在襯底上光刻并刻蝕,形成固定錨結構,然后在襯底上制備犧牲層材料,使固定錨和犧牲層高度之間的差2μm之內;第二次光刻,在犧牲層材料上刻蝕掉固定錨的部分,露出固定錨,然后沉積結構層指示梁材料,在結構層材料上做第三次光刻,刻蝕出固定錨、支撐梁和梳齒結構,濺射沉積電極材料,第四次光刻刻蝕出電極,再用氧等離子體干法刻蝕釋放犧牲層材料,形成懸空的指示梁結構,得到MEMS傳感器。
本發(fā)明使用等離子體干法刻蝕的方法釋放犧牲層,可以有效避免懸空結構和襯底黏附的問題。
上述結構通過調節(jié)支撐梁的角度以及長度,即可以調整對形變的放大系數(shù),可以有效避免懸臂梁結構因應力梯度問題和襯底接觸的缺點。通過稍加改變的梁結構,可以通過測量梁在垂直于襯底方向上的形變來計算并得出應力,并且具有更好的測量精度。
可以提供存儲器單元在不同區(qū)域的應力分布情況,其結構可以將懸空結構垂直于襯底平面的形變控制在最小,提高測試結構的可靠性。
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