[發明專利]一種基于圖像通道輪廓的陷印方法及系統有效
| 申請號: | 201110428038.5 | 申請日: | 2011-12-19 |
| 公開(公告)號: | CN103167215A | 公開(公告)日: | 2013-06-19 |
| 發明(設計)人: | 張宏志;袁夢尤;楊文鮮;李平立 | 申請(專利權)人: | 北京大學;方正國際軟件(北京)有限公司 |
| 主分類號: | H04N1/58 | 分類號: | H04N1/58 |
| 代理公司: | 北京天悅專利代理事務所(普通合伙) 11311 | 代理人: | 田明;任曉航 |
| 地址: | 100871*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 基于 圖像 通道 輪廓 方法 系統 | ||
1.一種基于圖像通道輪廓的陷印方法,其特征在于,包括以下步驟:
(1)提取待陷印圖像中各個通道輪廓邊界;
(2)確定所有通道輪廓邊界兩側設定寬度范圍內的像素點的距離大小及方向,生成距離關系圖;
(3)根據所述距離關系圖,統計輪廓邊界兩側的顏色濃度信息,決定輪廓邊界的陷印方向;
(4)確定需要進行陷印處理的像素點,形成陷印蒙版;
(5)根據所述陷印蒙版,對所述待陷印圖像進行陷印處理。
2.如權利要求1所述的基于圖像通道輪廓的陷印方法,其特征在于:步驟(1)中所述通道輪廓邊界包括參與陷印的擴入通道輪廓邊界和相應的被擴入的復合輪廓邊界,四色通道無論是擴入通道還是被擴入通道都作為一個整體提取通道輪廓邊界。
3.如權利要求2所述的基于圖像通道輪廓的陷印方法,其特征在于,步驟(1)中所述提取待陷印圖像各個通道輪廓邊界的方法如下:
①將待陷印圖像分割為前景和背景兩部分;
②提取通道輪廓邊界;
③對提取的通道輪廓邊界進行整理:去除待陷印圖像邊緣上的邊界點;如果存在選區,去除選區擴展區域里的獨立邊界。
4.如權利要求3所述的基于圖像通道輪廓的陷印方法,其特征在于,所述將待陷印圖像分割為前景和背景兩部分的方法如下:
(a)獲取待陷印圖像數據:如果是單通道,則直接讀取通道數據;如果是復合通道,則取所有通道的像素最小值作為復合圖像數據;
(b)根據設定的邊界閾值ET對獲取的待陷印圖像數據進行二值化:大于ET的像素點為背景像素點,小于ET的像素點為前景像素點;
(c)在二值化的基礎上利用區域生長方法進行圖像分割,獲得圖像尖角、狹縫處的背景區域。
5.如權利要求4所述的基于圖像通道輪廓的陷印方法,其特征在于,步驟(c)中所述區域生長方法如下:
①選取初始種子像素點:將前景像素點用0表示,背景像素點用255表示,對于某一像素點i,記錄該像素點的原始像素值為Psi,二值化后像素值為Pdi,將滿足以下條件的像素點作為初始種子點:
a)未被掃描過;
b)Pdi=255;
c)在設定大小的窗口n×n內,分別在水平、垂直、45度、-45度方向上考察,至少在兩個方向上,Psi是局部極大值;
②區域生長:以初始種子像素點為中心,采用八鄰域生長模板進行區域生長,滿足生長條件的像素點作為新的種子像素點進行生長,直至生長過程結束,得到背景區域;新的種子像素點i需要滿足以下條件:
a)未被掃描過;
b)(Psi-ET)<DT,所述DT表示差異閾值;
c)在設定窗口大小n×n內,分別在水平、垂直、45度、-45度方向上考察,至少在兩個方向上,Psi是局部極大值。
6.如權利要求1所述的基于圖像通道輪廓的陷印方法,其特征在于:步驟(2)中所述設定寬度范圍比陷印寬度范圍大,所述陷印寬度范圍在1~8個像素點之間。
7.如權利要求1~6中任一項所述的基于圖像通道輪廓的陷印方法,其特征在于:步驟(4)中所述需要進行陷印處理的像素點分為陷印點和擴展點,所述陷印點是指位于當前通道輪廓邊界被擴入側陷印寬度范圍內的點,所述擴展點是指需要從邊界處陷印進入方側,距離邊界設定范圍內開始進行陷印處理的點。
8.如權利要求7所述的基于圖像通道輪廓的陷印方法,其特征在于,步驟(4)中所述確認陷印蒙版的過程包括以下步驟:
①結合通道色版間允許的最大重疊寬度和最大間隙寬度,根據當前擴入通道輪廓邊界和相應的所有被擴入通道的復合輪廓邊界之間的關系,得到初始陷印點蒙版;
②遍歷所述初始陷印點蒙版,對沒有發生陷印的陷印點,分別考察當前擴入通道輪廓邊界和所有被擴入通道輪廓邊界之間的關系,判定該點是否需要發生陷印,得到完整的陷印點蒙版;
③去除長直線上的短陷印區域;
④根據陷印點蒙版,得到擴展點蒙版。
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