[發明專利]真空蒸發系統

有效

• 申請號: 201110424150.1
• 申請日: 2011-12-16
• 公開（公告）號: CN103160788B
• 公開（公告）日: 2017-06-30
• 發明（設計）人: 張志林;張建華;蔣雪茵;劉立寧;李俊
• 申請（專利權）人: 上海大學
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司44224
• 代理人: 何平

1.一種真空蒸發系統，包括真空腔室、蒸發源、電磁感應圈以及托架；所述托架設置在所述真空腔室的底部，所述電磁感應圈設置在所述托架上方，與所述托架相對，其特征在于，基板設置在所述真空腔室的上部，所述蒸發源為多個，所述真空蒸發系統還包括移動支架，所述多個蒸發源排列放置在所述移動支架上，所述移動支架將蒸發源送至所述托架上方，所述托架將蒸發源托送至所述電磁感應圈中通過電磁感應加熱進行蒸發，并在蒸發結束后返回初始位置，將所述蒸發源放回所述移動支架上的初始位置，所述移動支架在所述蒸發源放回到初始位置時，進行移動并將下一蒸發源送至所述托架上方，進行下一次蒸發；

所述真空蒸發系統還包括用于移動所述移動支架的移動裝置；所述移動裝置與所述移動支架相連，用于帶動所述移動支架并使所述移動支架上的蒸發源準確對位到所述托架上方，以便所述托架將蒸發源托送到所述電磁感應圈中；

所述蒸發源包括蒸發坩堝、阻擋板以及氣流導向頭；所述阻擋板為多塊，與蒸發坩堝內部連接，呈迷宮狀交叉設置，所述氣流導向頭與蒸發坩堝頂部連接，為板狀，所述氣流導向頭中心開設有沿軸向貫通的中心孔，所述中心孔為圓柱直孔，所述中心孔外側的圓周上設有多個貫通的外圍孔，所述外圍孔直徑小于所述中心孔直徑，所述外圍孔與氣流導向頭頂面的夾角小于90度且頂端向所述氣流導向頭的外側傾斜，以補償從所述中心孔噴出的氣流的強度在周邊的不足。

2.一種真空蒸發系統，包括真空腔室、蒸發源、電磁感應圈以及托架；所述托架設置在所述真空腔室的底部，所述電磁感應圈設置在所述托架上方，與所述托架相對，其特征在于，基板設置在所述真空腔室的上部，所述蒸發源為多個，所述真空蒸發系統還包括移動支架，所述多個蒸發源排列放置在所述移動支架上，所述移動支架將蒸發源送至所述托架上方，所述托架將蒸發源托送至所述電磁感應圈中通過電磁感應加熱進行蒸發，并在蒸發結束后返回初始位置，將所述蒸發源放回所述移動支架上的初始位置，所述移動支架在所述蒸發源放回到初始位置時，進行移動并將下一蒸發源送至所述托架上方，進行下一次蒸發；

所述真空蒸發系統還包括用于移動所述移動支架的移動裝置；所述移動裝置與所述移動支架相連，用于帶動所述移動支架并使所述移動支架上的蒸發源準確對位到所述托架上方，以便所述托架將蒸發源托送到所述電磁感應圈中；

所述蒸發源包括蒸發坩堝、阻擋板以及氣流導向頭；所述阻擋板為多層，與蒸發坩堝內部連接，每層阻擋板上開設有多個小孔，且相鄰兩層阻擋板上的小孔互不對齊，所述氣流導向頭為板狀，中心開設有沿軸向貫通的中心孔，所述中心孔為兩端呈喇叭形的直孔，所述中心孔外側的圓周上設有多個貫通的外圍孔，所述外圍孔直徑小于中心孔直徑，兩端呈喇叭形，所述外圍孔與氣流導向頭頂面的夾角小于90度且頂端向所述氣流導向頭的外側傾斜，以補償從所述中心孔噴出的氣流的強度在周邊的不足。

3.根據權利要求1或2所述的真空蒸發系統，其特征在于，所述真空腔室包括隔板，所述隔板將真空腔室隔成上下兩層，上層為主真空腔室，所述主真空腔室上部設置基板，所述隔板中部開有蒸發口，供蒸汽氣流通過，所述蒸發口一側設有可封閉蒸發口的閘板閥，所述真空腔室下層一側開設有密封門，用于更換所述移動支架和蒸發源。

4.根據權利要求1或2所述的真空蒸發系統，其特征在于，所述蒸發源卡放在所述移動支架上，所述移動支架上設置有多組定位環組，每組定位環組包括上下兩個定位環，上定位環直徑大于蒸發源的直徑，下定位環直徑小于蒸發源的直徑，以卡持一個蒸發源。

5.根據權利要求1或2所述的真空蒸發系統，其特征在于，所述真空蒸發系統還包括托架推動裝置；所述托架推動裝置包括內推動裝置和外推動裝置，所述內推動裝置設置在真空腔室內部，與托架底部連接，所述外推動裝置固定在真空腔室底部的外部，與所述內推動裝置相對，所述外推動裝置利用磁力推動所述內推動裝置上升，以推動所述托架上升。

6.根據權利要求1或2所述的真空蒸發系統，其特征在于，所述蒸發源底部裝有蒸發料，所述蒸發料是單一材料，或者是多種材料的混合材料，所述混合材料是機械混合料，或者是通過把多種材料溶解在溶劑中再加入到基質中使其含有微量雜質，所述蒸發料預先稱量后裝入所述蒸發源并一次蒸發完。