[發(fā)明專利]一種LPCVD工藝腔中的氣體吹掃系統(tǒng)及方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201110423198.0
• 申請日: 2011-12-16
• 公開（公告）號: CN102517564A
• 公開（公告）日: 2012-06-27
• 發(fā)明（設計）人: 辛科
• 申請（專利權）人: 漢能科技有限公司
• 主分類號: C23C16/455
• 分類號: C23C16/455;C23C16/40
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種LPCVD工藝腔中的氣體吹掃系統(tǒng)，包括加熱腔、冷卻腔和多個用于沉積BZO玻璃的工藝腔，各個腔室之間螺紋連接，其特征在于還包括設置在工藝腔內，緊鄰兩工藝腔對接腔壁處的氣體吹掃裝置。

2.根據(jù)權利要求1所述的LPCVD工藝腔中的氣體吹掃系統(tǒng)，其特征在于所述氣體吹掃裝置包括用于吹掃的分氣裝置本體、吹掃氣體進氣孔、分氣裝置中用于勻氣的分氣口和固定分氣裝置的螺絲；其中，進氣孔位于工藝腔側壁緊鄰兩工藝腔對接腔壁處，分氣裝置本體一端與進氣孔連接，分氣裝置本體上壁通過螺絲與工藝腔腔蓋固定，分氣裝置本體下方連接多個分氣口。

3.根據(jù)權利要求2所述的LPCVD工藝腔中的氣體吹掃系統(tǒng)，其特征在于所述分氣口呈上粗下細狀。

4.根據(jù)權利要求2所述的LPCVD工藝腔中的氣體吹掃系統(tǒng)，其特征在于所述分氣口密集分布，且緊貼兩工藝腔間傳輸玻璃的縫隙。

5.根據(jù)權利要求1所述的LPCVD工藝腔中的氣體吹掃系統(tǒng)，其特征在于所述吹掃系統(tǒng)還連接有控制氣體進氣和流量大小的裝置。

6.根據(jù)權利要求5所述的LPCVD工藝腔中的氣體吹掃系統(tǒng)，其特征在于所述吹掃系統(tǒng)還連接有氣動閥和質量流量計。

7.一種LPCVD工藝腔中的氣體吹掃方法，通入工藝氣體的同時打開吹掃系統(tǒng)的進氣裝置，將吹掃氣體通到工藝腔室側壁的進氣孔處，吹掃氣體通過進氣孔流入到氣體分氣裝置本體，通過分氣裝置本體分流，從分氣口流出，將吹掃氣體從上往下均勻的吹掃到腔室之間的縫隙處。

8.根據(jù)權利要求7所述的LPCVD工藝腔中的氣體吹掃方法，其特征在于所述吹掃系統(tǒng)的進氣裝置為氣動閥。

9.根據(jù)權利要求8所述的LPCVD工藝腔中的氣體吹掃方法，其特征在于所述吹掃系統(tǒng)還連接有控制流量大小的裝置，優(yōu)選質量流量計。

10.根據(jù)權利要求7所述的LPCVD工藝腔中的氣體吹掃方法，其特征在于所述吹掃氣體為惰性氣體或氫氣。