[發(fā)明專利]鹵素?fù)诫s碲化鎘的制備方法以及鹵素?fù)诫s碲化鎘薄膜太陽(yáng)能電池及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201110423025.9 | 申請(qǐng)日: | 2011-12-15 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103165743A | 公開(公告)日: | 2013-06-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王國(guó)鳳;吳勇陞;朱劉;文崇斌 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣東先導(dǎo)稀材股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/18 | 分類號(hào): | H01L31/18;H01L31/0296 |
| 代理公司: | 北京五洲洋和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11387 | 代理人: | 張向琨;劉春成 |
| 地址: | 511500 廣東省清*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 鹵素 摻雜 碲化鎘 制備 方法 以及 薄膜 太陽(yáng)能電池 及其 | ||
1.一種鹵素?fù)诫s碲化鎘的制備方法,其特征在于,所述鹵素?fù)诫s碲化鎘的制備方法包括步驟:
將5N鎘與5N碲按照第一規(guī)定質(zhì)量比稱料裝入反應(yīng)器中,以得到鎘碲混合物,所述第一規(guī)定質(zhì)量比是所述5N鎘與所述5N碲之間的質(zhì)量比;
向所述反應(yīng)器中按照第二規(guī)定質(zhì)量比加入4N或以上的鹵化鎘,所述第二規(guī)定質(zhì)量比是所述鹵化鎘與所述鎘碲混合物之間的質(zhì)量比;
將所述反應(yīng)器進(jìn)行抽真空至規(guī)定真空度并密封;
將密封的所述反應(yīng)器放入一加熱器內(nèi),進(jìn)行升溫處理;以及
對(duì)升溫處理后的密封的所述反應(yīng)器進(jìn)行冷卻處理。
2.如權(quán)利要求1所述的鹵素?fù)诫s碲化鎘的制備方法,其特征在于,所述第一規(guī)定質(zhì)量比是1∶1~1.15。
3.如權(quán)利要求1所述的鹵素?fù)诫s碲化鎘的制備方法,其特征在于,所述反應(yīng)器為石英管。
4.如權(quán)利要求1所述的鹵素?fù)诫s碲化鎘的制備方法,其特征在于,所述第二規(guī)定質(zhì)量比是0.01~200mg/kg。
5.如權(quán)利要求1所述的鹵素?fù)诫s碲化鎘的制備方法,其特征在于,所述鹵化鎘選自氟化鎘、氯化鎘、溴化鎘和碘化鎘中的任一種。
6.如權(quán)利要求1所述的鹵素?fù)诫s碲化鎘的制備方法,其特征在于,所述規(guī)定真空度為10-2~10-5Pa。
7.如權(quán)利要求1所述的鹵素?fù)诫s碲化鎘的制備方法,其特征在于,
在將密封的所述反應(yīng)器放入加熱器內(nèi)之前,所述加熱器被升溫至第一規(guī)定溫度,所述第一規(guī)定溫度在所述鎘的熔點(diǎn)以下;
所述升溫處理包括步驟:
在將密封的所述反應(yīng)器放入所述加熱器內(nèi)后,在所述第一規(guī)定溫度下保溫第一規(guī)定時(shí)間;
之后,以第一升溫速率升溫至第二規(guī)定溫度,保溫第二規(guī)定時(shí)間,所述第二規(guī)定溫度在所述碲的熔點(diǎn)以上;以及
之后,以第二升溫速率升溫至第三規(guī)定溫度,保溫第三規(guī)定時(shí)間,其中所述第二升溫速率低于所述第一升溫速率,所述第三規(guī)定溫度在所述鹵化鎘的熔點(diǎn)以上。
8.如權(quán)利要求7所述的鹵素?fù)诫s碲化鎘的制備方法,其特征在于,
所述第一規(guī)定溫度為100~300℃,所述第一規(guī)定時(shí)間為10~30min;
所述第一升溫速率為12~15℃/min,所述第二規(guī)定溫度為700~900℃,所述第二規(guī)定時(shí)間為8~30min;
所述第二升溫速率為1~5℃/min,所述第三規(guī)定溫度為1092~1200℃,所述第三規(guī)定時(shí)間為10~18min。
9.如權(quán)利要求1所述的鹵素?fù)诫s碲化鎘的制備方法,其特征在于,所述冷卻處理為:將所述反應(yīng)器整體從所述加熱器內(nèi)直接取出,使所述反應(yīng)器進(jìn)行室溫冷卻。
10.如權(quán)利要求1所述的鹵素?fù)诫s碲化鎘的制備方法,其特征在于,所述冷卻處理為:將所述反應(yīng)器的溫度以預(yù)定冷卻速率降至預(yù)定溫度,保溫預(yù)定時(shí)間;之后將所述反應(yīng)器從所述加熱器內(nèi)直接取出,使所述反應(yīng)器進(jìn)行室溫冷卻。
11.如權(quán)利要求10所述的鹵素?fù)诫s碲化鎘的制備方法,其特征在于,所述預(yù)定冷卻速率為0.1~20℃/min,所述預(yù)定溫度為900~1080℃,所述預(yù)定時(shí)間為10~360min。
12.如權(quán)利要求1所述的鹵素?fù)诫s碲化鎘的制備方法,其特征在于,所述冷卻處理為:以規(guī)定運(yùn)動(dòng)速度將所述反應(yīng)器從所述加熱器內(nèi)取出,使所述反應(yīng)器進(jìn)行室溫冷卻。
13.如權(quán)利要求12所述的鹵素?fù)诫s碲化鎘的制備方法,其特征在于,所述規(guī)定運(yùn)動(dòng)速度為1~20mm/h。
14.一種鹵素?fù)诫s碲化鎘薄膜太陽(yáng)能電池的制備方法,其特征在于,包括步驟:
在SnO2:F玻璃上沉積N型CdS層;
在所述N型CdS層上沉積P型鹵素?fù)诫s碲化鎘層,其中所述P型鹵素?fù)诫s碲化鎘層中的鹵素?fù)诫s碲化鎘依據(jù)權(quán)利要求1~13中任一項(xiàng)所述的鹵素?fù)诫s碲化鎘的制備方法來(lái)獲得;
利用蒸發(fā)源ZnTe和蒸發(fā)源Cu在所述P型鹵素?fù)诫s碲化鎘層上沉積形成背接觸層;以及
在所述背接觸層上沉積背面電極層。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于廣東先導(dǎo)稀材股份有限公司,未經(jīng)廣東先導(dǎo)稀材股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201110423025.9/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過(guò)該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





